PVD沉积系统
沉积、退后和处理方面提供最好的的研究和制备监测手段。
MOS Ultra Scan采用世界顶级薄膜应力测量系统，MOS(Multi-beam Optical Sensor)多光束技术荣获美国
美国k-Space公司作为原位、在线和离线测试设备的主要制造商，努力为半导体、薄膜材料和光伏产业的研究机构和制造商提供专业的材料性能测试设备。我们的设备满足几乎所有的薄膜沉积手段的监测要求，包括各种
界领先的PVD技术，并融入了公司最新创新成果，能够完成连续薄的阻挡层和种子层的硅通孔（TSV）沉积，帮助客户以更低廉的成本制造出体积更小、功耗更低、性能更高的集成3D芯片。Ventura系统
Endura Ventura PVD系统能将高深宽比的硅通孔（TSV）结构用于铜互连技术，并使成本降低多达50％
业界首款用于量产的PVD钛阻挡层解决方案，显著提升TSV可靠性
2014
应用材料公司在业界领先的PVD技术，并融入了公司最新创新成果，能够完成连续薄的阻挡层和种子层的硅通孔（TSV）沉积，帮助客户以更低廉的成本制造出体积更小、功耗更低、性能更高的集成3D芯片。Ventura系统
Cobalt 系统，这是现今唯一一款在逻辑芯片铜互连工艺中能够通过化学气相沉积实现钴薄膜的系统。钴薄膜在铜工艺有两种应用，平整衬垫（Liner）与选择性覆盖层（Capping Layer），将铜互连的
高性价比、高产能、高可靠性的硅薄膜光伏组件规模化生产线。其核心专有设备：新一代等离子强化型化学气相沉积(PECVD)系统和磁控溅射(PVD)系统拥有完全自主知识产权。对提高硅薄膜光伏组件的光电转换
（high-throughput physical vapor deposition，PVD）系统订单。 Intevac预计将于2014年中旬交付该系统。Intevac总裁兼首席执行官Wendell Blonigan表示
溅射（PVD）真空沉积设备和原子层沉积（ALD）设备制造专家AVACO日前宣布，为光伏电池开发了一个新缓冲层沉积概念。 通过使用原子层沉积（ALD）工艺，AVACO声称，已经将能
索比光伏网讯:溅射(PVD)真空沉积设备和原子层沉积(ALD)设备制造专家AVACO日前宣布，为光伏电池开发了一个新缓冲层沉积概念。通过使用原子层沉积(ALD)工艺，AVACO声称，已经将能
工艺，以及其全自动的连结与智能控制。ISS 1200以物理气相沉积法 (PVD) 为运作基准，在物理制程的协助下，将钼之类的原料转换为气态，然后再沉积到玻璃基板上成为导电膜层。其占地面积小且模块化的
产品线。曼茨ISS 300到ISS 1200产品平台均由该公司开发，而溅镀工艺作为一种表面镀膜技术则历史悠久。溅镀系统的基本原理是物理气相沉积(PVD)，原料通过一系列物理过程被转换为气态，随后沉积
