MOS Ultra Scan采用世界顶级薄膜应力测量系统,MOS(Multi-beam Optical Sensor)多光束技术荣获美国专利技术!同时KSA公司荣获2008 Innovation of the Year Awardee!主要用户:全球著名高等学府(如:Harvard University 2套,Stanford University,Johns Hopkins University,Brown University 2套,Karlsruhe Research Center,Max Planck Institute,西安交通大学等)、中国计量科学研究院、中科院上海微系统所、中科院上海光机所、中科院半导体所、半导体制和微电子造商(如IBM.,Seagate Research Center,PhillipsSemiconductor,NEC,Nissan ARC,Nichia Glass Corporation)等所采用。
应用户在薄膜应力mapping测试方面的特殊需求,kSA依赖其过硬的技术制造服务团,成功开发研制了具备超大面积mapping测试功能的kSA MOS Ultra-Scan, kSA MOS-US-1500,该设备曲率/应力mapping测试成像面积高达1.5mx1.5m,各项技术指标均优于标准配置的薄膜应力测试仪kSA MOS Ultra Scan。
同时据了解,该设备于2014年7月3日成功通过了中科院设备主管单位的验收。
责任编辑:carol