PECVD
方案，量产可行的情况下，会大幅的升级。还有就是PVD的解决方案，PVD也没有绕镀。未来应该是PECVD路线相比原有的LPCVD单插约有0.001元/W左右的成本优势，在LPCVD双插成熟之前，PECVD
。多净化的方法就比较多了，LPCVD、PECVD等等，现在良率问题基本解决了，我们说技术迭代发生，我们说产业化的进程，实际上从这两个方面就可以看得非常清楚，它已经走向产业化，解决的是工艺问题，所以就有
的线，也有一条PECVD的线，从经济上来说，对于目前我们掌握LPCVD很深的企业，LPCVD还是比较好的技术。这就是我们的技术路线，最根本的是技术钝化，开始我们是在背面，PERC全背面的扩场变成了钝化
全产业链N型TOPCon新生态已形成。我总结的三大挑战和机遇，现在看来都在慢慢的落实当中，比如说LPCVD还是PECVD?浆料部分的配合，在多晶硅减薄方面做了大量的努力选择性发射极，去年的时候SE技术在
薄膜领先技术优势下，在异质结及钙钛矿叠层电池核心工艺装备研发方面取得了重大进展，针对异质结及钙钛矿叠层电池的痛点开发了运行高效、工艺灵活的大面积团簇式PECVD真空复合镀膜装备，并且具备完全
镀膜的能力。目前，昶火微科研发的大面积团簇式PECVD真空复合镀膜装备已经开始量产，将为异质结+钙钛矿叠层太阳能电池的量产铺平道路。
，在所有的多晶硅生长方法中(PECVD、PVD等)具有最高的多晶硅质量。一道新能TOCon3.0核心技术DAON产品：全面升级基于i-SE技术和ut-polySi技术提升TOPCon电池效率和可靠性
近日，微导纳米(688147)在接受调研时表示，公司的PEALD/PECVD二合一设备在TOPCon背面薄膜制备中具有技术优势。公司依靠PEALD技术实现了对隧穿层的精准控制，并保证其均匀性，能够
满足隧穿氧化层工艺所需各项苛刻的需求，同时公司已通过调整硅片表面及膜层等方式成功掌握了原位掺杂多晶硅层PECVD量产技术。公司积极响应下游厂商XBC电池结构的开发和优化需求，并根据下游厂商在HJT电池
和产业发展，在TOPCON高效电池和HJT高效电池PECVD设备方面取得重大突破。现已拥有核心技术专利500余项，其中发明专利243项，并获得中国国家科技部火炬计划重点新产品等诸多荣誉。在光伏高效电池
23.5%，与PERC相比高出1%。其次是技术储备。目前PECVD+PVD是新建产能的主流选择。非晶硅薄膜沉积有PECVD与HWCVD两种路线，TCO沉积有PVD与RPD两种路线。从投资角度
，非晶硅薄膜沉积(PECVD)的设备投资占总设备投入的50%。制绒清洗、TCO制备、电极制备分别占总成本的10%、25%和15%。目前的设备投资额度约5亿元/GW，可以说，未来哪家企业率先推出稳定工艺设备与
化、半片化制程，结合创新i-in-p PECVD工艺路线，集成整线MES智能系统，进一步提升了太阳能电池的转换效率、良率、产能，同时降低了生产成本。明阳在光伏领域已深耕多年并取得突破性成果。近期
