刻蚀
最具水平、规模和影响力的太阳能光伏产业基地。公司先后成功自主研发了清洗机、扩散炉、PECVD、刻蚀机、高低温烧结炉、单晶炉、铸锭炉等太阳能光伏关键装备并成功推向市场，成为国内最大的太阳能电池制造装备
制造整线装备能力，可提供10种太阳能电池大生产线设备中的9种，其中有6种(扩散炉、等离子刻蚀机、清洗/制绒机、石英管清洗机、低温烘干炉)已在国内生产线占据主导地位，2种(管式PECVD、快速烧结炉)和
集团和湖南省市政府的高度重视和大力支持下，48所先后成功自主研发了清洗机、扩散炉、PECVD、刻蚀机、高低温烧结炉、单晶炉、铸锭炉等太阳能光伏关键装备并成功推向市场，成长为国内最大的太阳能电池制造装备
、上海空间电源所、上海交大、云南半导体厂等国内光伏行业的科研院所、高校、企业展开合作，先后推出国内首台光伏行业用高温/氧化系统、等离子体刻蚀机、PECVD、高温烧结炉等。自2002年起，又与无锡尚德等
SiH4、镀膜靶材）、光电设备供应商（晶硅生长炉、扩散炉、清洗/制绒设备、等离子刻蚀机、硅片研磨机、PECVD设备、激光切割机、激光划线设备、组件压层、测试设备等）、能源公司/电力公司、光伏相关
for Detection of Oxidation Induced Defects in Polished Silicon Wafers
MF 1809-0704——表征硅中结构性缺陷的刻蚀方案的选择与使用指南
1810-0304——硅中优先刻蚀或缀饰的表面缺陷的计量测试方法Test Method for Counting Preferentially Etched or Decorated Surface
产业政策及基地建设规划工作手册(2010-2012年)》(以下简称《手册》)正式公布。东莞将重点突破薄膜太阳能电池电极制备、薄膜蒸镀工艺和电池激光刻蚀设备制造技术,低损耗逆变系统制造技术,大容量储电
反应离子刻蚀技术（RIE）在硅片表面制造统一的粗糙度来提升阳光捕获能力。半导体工业普遍使用反应离子刻蚀工艺加强半导体的产品功能。 该公司还采用背板箔(MWT)技术，可以消除多晶硅组件前面的宽色带，增加电池
，获得11项具有自主知识产权的核心技术。该所研发的高温扩散炉和等离子刻蚀机两种产品，多年在国内市场占有率高达80%。紧跟国际最新技术，该所还率先在国内研制成功首台八英寸程控扩散炉、ICP等离子刻蚀机等光伏
表现。中微半导体设备有限公司 (AMEC)自从2007年在日本的SEMICON隆重推出其高端的双反应台、去耦合反应离子刻蚀设备以来，其设备已经先后进入亚洲3个地区5家最先进的芯片制造企业。据报道
，中微公司 Primo D-RIE(TM) 刻蚀机被客户用于65/45纳米及更高端制造中，而新的订单已经排到年底。AMEC成功地完成 Primo D-RIE 在亚洲市场的布局，顺利在今年3月结束4千6百万
POCL3 等气体，在高温下分解后在硅片表面形成P-N 结。等离子去边结工序：在真空状态下，采用高频激发CF4 等离子体刻蚀边缘的P-N 结。喷涂炉淀积SiNx 工序：在喷涂炉等离体化学气相淀积中，采用高频
