刻蚀

索比光伏网讯:Schmd选择性发射极刻蚀机最新订单是八月中旬，来自中国的一家主要生产商。可见，成功的制造工艺能激励生产商增加订单。据悉，Schmd集团的选择性发射极技术通过自身出色的运行情况已经证明
和后续的金属化工序匹配，也能保证自身刻蚀的稳定性。由于这项技术使用的药液都是光伏行业常用的而且耗药量极小，这些优点保证了Schmd产品较低的成本兼有电池性能提升，在相当长的时期内保持非常有吸引力的成本

刻蚀、氮化硅沉淀、丝网印刷、制绒、扩散等种种工艺后，被整齐地放在一个特制的盒子里。据介绍，这样的生产线，大全太阳能有限公司一共有四条，三条生产多晶硅电池片，一条生产纯度更高的单晶硅电池片，预计今年9

还谈到了从对透明导电氧化物薄膜进行UV激光刻蚀所使用的晶体材料还比较贵、工艺极为复杂的时期直至目前，刻蚀工具组中的激光技术所走过的发展历程。目前，四个一组的可调波长平行光速扫过玻璃后，可迅速将薄膜分成
速度过快，那么衰减的程度也就很高。第二个因素就是薄膜堆叠。如果交界处较薄，那么交界处的电场就会很强。这个过程并不像光致缺陷那样敏感。薄膜在正泰太阳能薄膜光伏生产线上被激光刻蚀成串联电池　　使用串接结的

，大尺寸、超薄硅片多线切割机，硅片自动分选机等太阳能硅片关键生产设备。支持多槽制绒清洗设备，全自动平板式PECVD，激光刻蚀机，干法刻蚀机，离子注入机，全自动印刷机、快速烧结炉等晶硅太阳能电池片生产线设备

单晶炉，吨级多晶硅铸锭炉，大尺寸、超薄硅片多线切割机，硅片自动分选机等太阳能硅片关键生产设备。支持多槽制绒清洗设备，全自动平板式PECVD，激光刻蚀机，干法刻蚀机，离子注入机，全自动印刷机、快速烧结炉等

高生产率、低成本 ROFIN的激光技术广泛的应用在太阳能薄膜边缘刻蚀应用中，通过更好的电源使用和时间分配概念，1000w的DQ010激光技术可实现更好的可用功率，更快的处理周期——80平方厘米

性能要求的提高，TCO玻璃必须具备提高光散射的能力，而ITO镀膜很难做到这一点，并且激光刻蚀性能也较差。铟为稀有元素，在自然界中贮存量少，价格较高。ITO应用于太阳能电池时在等离子体中不够稳定，因此目前
ITO镀膜已非光伏电池主流的电极玻璃。SnO2镀膜也简称FTO，目前主要是用于生产建筑用Low-E玻璃。其导电性能比ITO略差，但具有成本相对较低，激光刻蚀容易，光学性能适宜等优点。通过对普通Low-E的

技术和生产工艺，在提高性能的同时降低生产成本。公司的太阳能业务部门将为公司长期的良性发展做出贡献。Singulus公司为清洗和刻蚀湿法工艺推出的VITRUM GEN 2系统

的少子寿命测试仪。实验材料：材料采用P型(100)的直拉的125mmx125mm单晶硅片，电阻率约为0．5～3Ω·cm，厚度200+50μm。在实验前经过硅片清洗和制绒，磷扩散，等离子刻蚀，去除

专业从事太阳能应用设备、半导体制造设备研发、设计和制造的高科技合资企业。产品主要有太阳能逆变器、射频电源、射频自动匹配器、射频功率分配器，广泛用于太阳能光伏系统、PECVD、真空镀镆、刻蚀等真空设备当中