刻蚀

越强，最终会卖得越好，设备制造商需要依靠创新来推动制造业务的增长。45nm在中国正在逐渐走向成熟，很多新的制造工艺和材料，如高k金属栅、低k互连电介质、更高的刻蚀、填充要求等等，都需要更完善的真空泵等

越强，最终会卖得越好，设备制造商需要依靠创新来推动制造业务的增长。45nm在中国正在逐渐走向成熟，很多新的制造工艺和材料，如高k金属栅、低k互连电介质、更高的刻蚀、填充要求等等，都需要更完善的真空泵等

实验室，MBE，磁控溅射仪，激光刻蚀系统，电化学系统，太阳能电池表征系统等大型仪器设备。具备了完善的太阳能研究实验条件。目前，研究团队包括：研究员3人，副研究员1人，助研4人，研究助理5人。根据研究需要

，独特的低成本商业模式，良好的资金状况，以及与现有及潜在顾客的良好关系。伴随着去年全球经济状况的窘境和芯片制造不断进入更小尺度所带来的更加昂贵的制造成本，客户更加看重我们独特的甚高频去耦合的反应离子刻蚀
，为创新和研发预留了充足的资金，在不断改进现有产品性能的同时，对前段和封装三维期间的TSV刻蚀技术和设备的研发投入了很多的资源。这使我们能在一个更主动的位置，以争取更多的市场机会。 很多亚洲一流的芯片

日前，东营光伏太阳能公司总投资2.1亿元、年产60MW光伏电池片项目开工建设，该项目主要以多晶硅晶片为原料，通过清洗、制备绒面、等离子刻蚀、去PSG等低耗能、无污染的工艺，生产光伏电池片

，可以用化学腐蚀或离子刻蚀去除CdTe膜面的高阻氧化层。 　　 物理刻蚀技术废料少，容易和其他工艺环节集成，但是不易获得厚度在10nm～100nm的高质量富碲层，该层对于形成良好欧姆接触特性的背电极是非

进行了新产品开发、产品技术升级和换代。”据裴二章介绍，目前45所已有多项新产品推向市场，如应用于12英寸晶圆封装的清洗、电镀、刻蚀、显影、剥离、减薄、划片、测试设备等；应用于太阳能光伏领域的大尺寸多

、等离子刻蚀机、激光机和层压机、太阳能电池及组件的测试等设备已初步实现国产化。但由于这些工作见效慢，国家应该拿出资金对企业科研攻关予以补贴。 　　另外，我国主要靠进口生产线、各产业链单兵作战的现状

太阳能电池产业发展的全部重要设备。 　　目前，在太阳能电池生产线的10种主要设备中，六种已在国内生产线中占据主导。其中，扩散炉、等离子刻蚀机、清洗制绒设备已达到或接近国际先进水平，性价比优势十分
明显。但是，多晶电池绒面制作的制绒机与进口设备还有一定差距，用于周边刻蚀的激光刻阻机及湿法化学刻蚀设备尚未成功开发。全自动丝网印刷机、自动分检机、平板式PECVD等三种设备近期内尚需完全依赖进口

（钛、铬、钼、铂）、非金属基底（二氧化锡、石墨、破碳）上都可成功制备性能稳定、重现性好的CdSe薄膜电极。在金属基底CdSe薄膜结合力强，界面电阻小，经过电极表面的化学刻蚀和光化学刻蚀获得了7％的能量
InP单晶电极，它们具有吸收太阳光能的最佳带隙，可以构成高效的光电化学电池。n-GaAs电极在多硒溶液中有较好的稳定性，经H2SO4-H2O2混合溶液的反复刻蚀，再吸附Ru3+离子后有效降低表面复合，使