表面等离子

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光伏产业:有技术才能抢到粥来源: 发布时间:2012-09-19 10:26:39

核心技术包括:核心配方研制、等离子体投射、表面修复、设备设计与制造技术。中来光伏们因为有技术,所以可以率先推出新品;中来光伏们因为有先发,所以别人减产他们可以扩产;正因为有中来光伏们,所以中国光伏还有从大走到强的希望。

新型银纳米点增强非晶硅光伏薄膜的光吸收来源:SEMI 发布时间:2012-09-18 23:59:59

。用电子束蒸发通过AAO模板制备Ag纳米点。然后用3M NaOH溶液将AAO模板刻蚀掉,在玻璃衬底表面留下Ag纳米微粒。接着,用等离子增强化学气相淀积(PECVD)在Ag图形玻璃衬底上生长a-Si:H
点的吸收谱示于图3。Ag纳米点的表面等离子共振(SPR)效应可以用SPR波长确定,它与谱图的主峰相应。如图3所示,Ag 纳米点SPR波长峰值在454nm处。与淀积在玻璃衬底上无Ag 纳米点的a-Si

光伏太阳能产业只要有技术就能抢到粥来源:SEMI 发布时间:2012-09-18 23:59:59

:核心配方研制、等离子体投射、表面修复、设备设计与制造技术。中来光伏们因为有技术,所以可以率先推出新品;中来光伏们因为有先发,所以别人减产他们可以扩产;正因为有中来光伏们,所以中国光伏还有从大走到强的希望。
。创造出全球光伏至少80%产能的中国,光伏应用却仅占全球光伏应用市场0.8%。于是,当出口市场遇阻后,中国不得不开始启动自己的光伏应用市场,哪怕是表面上的、纸面上的启动。2011年8月,中国发布了光伏发电

【光伏技术】高效晶体硅电池技术-表面织构来源: 发布时间:2012-09-04 11:27:05

反射率一般仍在11%以上),并产生大量的化学废液和酸碱气体,非环境友好型生产方式。反应离子刻蚀技术(RIE)是最有发展前景的技术,它首先在硅片表面形成一层MASK(掩膜)再显影出表面织构模型,然后再
利用反应离子刻蚀方法制备表面织构。用这种方法制备出的减反射绒面非常完美,表面反射率最低可降至0.4%,单多晶技术统一,生产工艺与设备都可移植于IC工业,如果生产成本能够进一步降低可望取代化学腐蚀方法而

9月22日90秒太阳风暴将袭击地球 美国数百万人或面临死亡来源: 发布时间:2012-08-31 14:58:52

迅速发展的同时也埋下了毁灭的种子,现代的生活方式以及所依赖的科学技术在悄然地把人类推向特殊危险的境地来自太阳表面喷射的等离子球将摧毁我们的电网,并造成致命的后果。美国科罗拉多州立大学的太空气候专家丹尼尔
-贝克(Daniel Baker)负责起草这项研究报告,他说:我们正在与可能出现灾难的边缘越来越近。太阳表面释放着大量的等离子体高能量粒子,它们从太阳表面逃逸以太阳风的形式在太空中穿梭。有时太阳风会携带

林建伟:专业和创新成就国际品质来源: 发布时间:2012-08-30 15:42:59

中来产品如此广受欢迎,可否透漏一些核心的技术介绍?林总:核心技术包括四方面,第一是核心配方研制技术;第二是等离子体的投射技术;第三是表面修复技术;第四是我们的设备设计与制造技术。从研发到生产,我们申报

【光伏技术】影响晶硅太阳能电池转换效率因素剖析(图)来源: 发布时间:2012-08-29 10:52:48

28%。只有尽量减少损失才能开发出效率足够高的太阳能电池。影响晶体硅太阳能电池转换效率的原因主要来自两个方面,如图1所示:(1)光学损失,包括电池前表面反射损失、接触栅线的阴影损失以及长波段的非吸收
损失。(2)电学损失,它包括半导体表面及体内的光生载流子复合、半导体和金属栅线的接触电阻,以及金属和半导体的接触电阻等的损失。这其中最关键的是降低光生载流子的复合,它直接影响太阳能电池的开路电压。光生

【光伏技术】7.11 高效晶体硅太阳能电池-日本京瓷(Kyocera)的高效多晶硅电池来源: 发布时间:2012-08-27 16:00:00

索比光伏网讯:多晶硅由于结构的各项同性而使采用碱腐蚀织构化效果不好,日本京瓷(Kyocera)公司采用PECVD/SiN+表面织构化采用反应性等离子刻蚀技术(RIE)。而扩散则采用双面扩散的方法

日本京瓷(Kyocera)的高效多晶硅电池来源:中国新能源网 发布时间:2012-08-27 10:28:11

多晶硅由于结构的各项同性而使采用碱腐蚀织构化效果不好,日本京瓷(Kyocera)公司采用PECVD/SiN+表面织构化采用反应性等离子刻蚀技术(RIE)。 而

【光伏技术】高效晶体硅太阳能电池-日本京瓷(Kyocera)的高效多晶硅电池来源: 发布时间:2012-08-27 10:01:17

索比光伏网讯:多晶硅由于结构的各项同性而使采用碱腐蚀织构化效果不好,日本京瓷(Kyocera)公司采用PECVD/SiN+表面织构化采用反应性等离子刻蚀技术 (RIE)。而扩散则采用双面扩散的方法