? 实际上,次氯酸钠是生产多晶硅的副产品。而多晶硅是高纯度硅,也重要的光伏和半导体材料。制造多晶硅会产生四氯化硅和氢气,将二者进行反应后的主产品是气相二氧化硅,副产品氯化氢和氯气。气相二氧化硅(又称气
源,与氧气(或空气)、氢气在高温下反应生成气相二氧化硅和副产物盐酸、次氯酸钠。次氯酸钠是普通家庭洗涤中的氯漂白剂,稀释后可用于新冠病毒肺炎疫情防护场所的大面积消毒,协鑫高科纳米月产1000多吨次氯酸钠
二氧化硅是极其重要的高科技超微细无机新材料之一,以其优越的稳定性、补强性、增稠性和触变性,在众多学科及领域内独具特性,有着不可取代的作用,是真正的高精尖产品。该公司通过多晶硅生产中的中间原料四氯化硅为硅
铝发生器,加热到400摄氏度,从固体铝和氯化氢气体中生成三氯化铝。三氯化铝在高压聚乙烯(HVPE)反应器中比一氯化铝更稳定。其他组分 - 氯化镓和氯化铟 - 在800摄氏度下蒸发。这三种元素结合
相沉积反应器技术工艺,将三氯氢硅转化为纯度高达99.999999999%的高纯度多晶硅。
多晶硅工艺流程来源:美国Hemlock挪威REC
REC于1996年12月在挪威成立
生产基地部分扩产项目,其总产能增至8万吨。瓦克多晶硅同时供应电子级和太阳能级客户,电子级客户占比在20%左右。
此外,美国产能仍有一定的不稳定性,2017年就因技术缺陷发生氢气爆炸,影响
精炼,除去内部的杂质,让矽的纯度更高。精炼过程包括将氢氯酸加入冶金级的矽,进行氯化反应生成三氯氢矽,之后加入氢气进行一次性还原产生高纯度的多晶硅,在整个过程中最多有25%的三氯氢矽会转化为多晶硅,同时
良好的工作习惯。
甲硅烷(SIH4)
1、特性
无色气体,有恶臭。易溶于苯,四氯化碳。
2、危险性
遇明火、高热极易燃烧,暴露在空气能自燃。与氟、氯等能发生剧烈的化学反应。吸入甲烷蒸气后,引起
PECVD目的
在硅片表面沉积一层氮化硅减反射膜,以增加入射在硅片上的光的透射,减少反射,氢原子搀杂在氮化硅中附加了氢的钝化作用。
镀膜原理
光照射在硅片表面时,反射会使光损失约三分之一
裂解,形成薄膜。 制备 CIGS 薄膜通常是采用饱和的氯化铜, 三氯化锢, 三氯化稼和 N-N 二甲基硒胺水溶 液,使该混合物喷射到已加热衬底上,使之热解反应沉积成 CIGS 薄膜
相关技术,为深入研究多晶硅生产技术积累经验;2000年,中国恩菲率先在国内开展了多晶硅高效节能环保生产技术与装备研究,率先获得国家发明专利四氯化硅氢化制备三氯氢硅方法授权;2002年,完成年产2000吨
企业是无法生存的。如果是副产物无法回收的话,企业是无法生存的。我们国内现在都采用四氯化硅工艺把多晶硅转化成三氯氢硅。我们这里还跟国内厂家有些不一样的地方,我们是把副产物四氯化硅转化为三氯氢硅,仍然有5
股份有限公司创新开发出深化冷氢化工艺及系列化主辅工艺配套的高效流化床四氯化硅循环处理技术;建成了世界单体规模较大的312万吨/年四氯化硅转化为三氯氢硅的成套装置。解决了多晶硅行业四氯化硅的排放及污染的共性