刻蚀

反射率一般仍在11%以上)，并产生大量的化学废液和酸碱气体，非环境友好型生产方式。反应离子刻蚀技术(RIE)是最有发展前景的技术，它首先在硅片表面形成一层MASK(掩膜)再显影出表面织构模型，然后再
利用反应离子刻蚀方法制备表面织构。用这种方法制备出的减反射绒面非常完美，表面反射率最低可降至0.4%，单多晶技术统一，生产工艺与设备都可移植于IC工业，如果生产成本能够进一步降低可望取代化学腐蚀方法而

。④ 扩散炉和刻蚀机采用从48所订制的半导体级产品，扩散后有特殊处理。其中②③项是在中电SE技术上进一步深化的技术，为尚德首席技术官 Stuart Wenham协助尚德开发，其还担任新南威尔士大学的 ARC

寿命减少。④ 扩散炉和刻蚀机采用从48所订制的半导体级产品，扩散后有特殊处理。其中②③项是在中电SE技术上进一步深化的技术，为尚德首席技术官 Stuart Wenham协助尚德开发，其还担任新南威尔士

索比光伏网讯:多晶硅由于结构的各项同性而使采用碱腐蚀织构化效果不好，日本京瓷(Kyocera)公司采用PECVD/SiN+表面织构化采用反应性等离子刻蚀技术(RIE)。而扩散则采用双面扩散的方法

多晶硅由于结构的各项同性而使采用碱腐蚀织构化效果不好，日本京瓷（Kyocera）公司采用PECVD/SiN+表面织构化采用反应性等离子刻蚀技术(RIE)。 而

索比光伏网讯:多晶硅由于结构的各项同性而使采用碱腐蚀织构化效果不好，日本京瓷(Kyocera)公司采用PECVD/SiN+表面织构化采用反应性等离子刻蚀技术 (RIE)。而扩散则采用双面扩散的方法

、铸锭炉、清洗机、扩散炉、刻蚀机、PECVD、高低温烧结炉等光伏装备，并一跃成为支撑我国太阳能光伏产业快速发展的太阳能电池制造装备龙头供应商，打造了世界光伏看中国，中国光伏装备在湖南的发展格局。 在

系列能够对刻蚀的PSS、显形光阻（PR）以及透明的多层结构进行量测，其测量结果准确度高、重复性好。泽塔的仪器在业界被公认为具有最佳的光学硬件和计算机软件算法组合，可以快速可靠地对数据进行采集和分析。与

，加快反应速度。但同时由于：①存在Soret效应，②HCl和SiCl4在高温下对硅棒具有刻蚀作用，③高温导致反应气体不能到达硅棒表面，即化学气相沉积未在硅棒表面发生，而是在高温区的气相中就已经反应了

制造装备供应商、最大的磁性材料制造装备供应商。48所太阳电池制造装备具备了整线交钥匙工程的能力，国内市场占有率达到80%以上，扩散炉、刻蚀机、PECVD等装备批量供应国际著名的无锡尚德太阳能电力有限公司等