刻蚀
扩散炉;三是边缘刻蚀和去磷硅玻璃，此环节需要仪器SCHMID刻蚀机、SCHMID自动动化仪器;四是背钝化在硅片背面沉积三氧化二铝膜和氮化硅膜，此环节需仪器MeyerBurger的一体机式镀膜机、罗博特科
工序:吸片、舟卡槽及硅片间摩擦;刻蚀工序:滚轮划伤、清洗残留、皮带接触、导条接触、花篮接触、人员接触、烘干污染、粉尘污染、油污等;背钝化工序:吸盘接触、皮带接触、导条接触、花篮接触、人员接触、粉尘污染等
发射极，方块电阻为90～98 / □; 3) 刻蚀及去磷硅玻璃层(PSG); 4) 硅片背面沉积Al2O3 和SiNx 钝化膜：Al2O3 薄膜厚度20 nm，SiNx 薄膜厚度130 nm
：管式 PECVD、管式高温扩散炉、单多晶制绒设备、单多晶清洗设备、硅芯硅料硅片清洗设备、等离子体刻蚀设备、链式湿法刻蚀设备、自动化设备等。 芯能科技： 公司主营业务为多晶硅和单晶硅材料制品
PECVD设备、扩散炉、制绒设备、刻蚀设备、清洗设备、自动化配套设备等太阳能电池片生产工艺流程中的主要设备的研发、制造和销售，为太阳能光伏电池生产企业提供高转换效率大产能整体解决方案。 在行业潮起潮落时
多晶硅料生产设备、硅片加工设备、晶体硅电池生产设备等。公司系国内领先的晶体硅太阳能电池生产设备制造商，主营PECVD设备、扩散炉、制绒设备、刻蚀设备、清洗设备、自动化配套设备等太阳能电池片生产工艺
捷佳伟创今日在深交所创业板上市，发行价格14.16元，证券代码为300724 捷佳伟创是一家国内领先的晶体硅太阳能电池生产设备供应商，主营PECVD设备、扩散炉、制绒设备、刻蚀设备、清洗设备
通过丝网印刷设备将浆料印刷至电池表面，浆料中的金属颗粒在高温条件下，表面熔融相互连接并刻蚀硅板，形成可靠地黏结和电学接触。目前，工业界普遍采用丝网印刷技术在电池基底材料上印刷电池栅线即金属电极。丝网印刷
创纪录达21.5%。2015年3月，MacDermid公司通过激光刻蚀、镀膜、热退火等工艺制作窄铜网导体替代银浆，其中镀层为1m镍层、10～15m铜层和0.2m银层。该工艺可实现30m的栅线宽度和4N
烧结，银粉之间依靠表面熔融相互连接，玻璃相在一定程度上熔银并刻蚀硅板，形成可靠黏结和欧姆接触。因此1N的拉力要求对于低温银浆的是一个挑战。 2HIT电池金属化工艺流程及方法 目前大部分HIT电池的
电池的铝硅合金层(BSF)只有约1m。常规单晶电池的铝硅合金层厚度通常约为10m。PERC电池专用铝浆为了保护背面Al2O3钝化层而使用了弱刻蚀的玻璃体，这应是导致差异的主因。尝试提高烧结炉温区3、4
。
由于PERC电池专用铝浆使用了弱刻蚀性的玻璃体，所以相对与常规电池的烧结曲线，铝浆烧结区需要升高温度才能获得良好的铝硅合金层(BSF)。过高的峰值温度会导致铝浆烧穿Al2O3上的SixNy保护层，破坏
