刻蚀

、MWT激光打孔设备、全自动高速激光划片/裂片机、LID/R激光修复设备、激光扩硼设备、激光刻蚀设备等等。客户群体主要为排名前列的一线厂商，如天合光能、隆基股份、晶澳太阳能、阿特斯、中环股份、协鑫集成

于后者。他们研究多晶硅/c-Si结的载流子选择性的原理发现，n+-多晶硅和p+-多晶硅分别具有电子、空穴选择性，通过化学刻蚀的沟槽隔开，分别与表面氧化物接触，因而具有优异的钝化效果。 基于SHJ
保护层，通过湿化学法对背面进行刻蚀，从而形成沟槽，将P、N型分离开后分别与金属电极接触，降低了载流子的复合，且形成载流子的选择性输运。相比于前面提到的几种结构的高效单晶硅太阳电池，该电池的制备流程复杂

元素的是酸液，而只有刻蚀和制绒两个工序涉及，刻蚀工序酸洗的是电池片背面，我们测试是正面烧蚀厚度约15m，因此制绒酸液残留的可能性较大，图4在小黑点区域略高，粉尘颗粒在过程中污染表面的可能性较大。 4
在职期间。通过与各组负责人跟踪各道测试片，扩散首尾片，以及玛雅背钝化掉渣外观明显的片子等，验证到以下内容： 1、黑斑非刻蚀、制绒清洗不足导致。仍怀疑清洗后Q-time时间长仍可能导致(针对部分高效不达标

转变为金刚线切割。不过由于金刚线切割多晶硅片的损伤层浅、线痕明显等问题，常规砂浆线的酸制绒难以在其表面刻蚀出有效的减反射绒面。目前，针对金刚线多晶硅片制绒的难题，主要解决办法包括：金刚线直接添加剂法

刻蚀去背结。再经过管式PECVD制作氮化硅减反射膜,PECVD过程中分别采用传统双层膜工艺和本文设计的三层膜工艺各做一组实验,采用Sentech的SE400测试监控氮化硅膜的折射率以及厚度。传统双层

%-60%)、扩散炉(市占率 50%)、制绒设备(市占率70%-80%)、刻蚀设备(市占率 30%)、清洗设备(市占率 70%-80%)、自动化设备等(市占率 20%)。公司产品合计价值量占整体产线

) 特点：阻挡层用氧化硅或氮化硅，刻蚀浆料主要利用释放的氟化氢来刻蚀。也可以控制氧化硅的膜厚，形成半阻挡膜，一次性扩散。困难在，浆料的印刷性能，扩散均匀性，印刷对齐。 三、 直接印刷掩膜层
，centrotherm 的激光刻蚀氧化膜SE电池交钥匙工程。 四、湿法腐蚀重扩散层/等离子体刻蚀重扩 特点：湿法可用氢氟酸和硝酸体系或强碱，将暴露的重扩散层腐蚀成浅扩散层。要求耐腐蚀浆料。干法等离子体，用四

。6%。多晶硅电池的转换率也突破了16%。制造太阳能晶硅电池需要经过很多工艺，其中包括硅片清洗、表面制绒、扩散制结、去磷硅玻璃、等离子刻蚀、镀减反射膜和丝网印刷等。由于欧洲市场特别是德国市场的需求拉动

研究者通过ALD技术与纳米技术研制的黑色电池是一个不错的例子。纳米结构的制备是通过等离子体刻蚀完成的，这可以极大地削弱光线的反射。此外，ALD方式制备出恰当的钝化薄层可以使表面层的载流子复合减少

6wt%H3PO4中刻蚀。 得到了通孔AAO膜，接着转移到玻璃衬底上。用电子束蒸发通过AAO模板制备Ag纳米点。然后用3MNaOH溶液将AAO模板刻蚀掉，在玻璃衬底表面留下Ag纳米微粒。接着，用等离子