LPCVD
方案，量产可行的情况下，会大幅的升级。还有就是PVD的解决方案，PVD也没有绕镀。未来应该是PECVD路线相比原有的LPCVD单插约有0.001元/W左右的成本优势，在LPCVD双插成熟之前，PECVD
路线的市占率将逐渐扩大。LPCVD双插+林扩路线成功推广后，由于LPCVDD+双插有比较明显的成本优势。看电池成本结构的时候，有时候特别纠结，大家都知道硅，我做这个PPT的时候，硅料还按照288测算的
。多净化的方法就比较多了，LPCVD、PECVD等等，现在良率问题基本解决了，我们说技术迭代发生，我们说产业化的进程，实际上从这两个方面就可以看得非常清楚，它已经走向产业化，解决的是工艺问题，所以就有
。最后用点篇幅介绍一下一道新能TOPCon
3.0的技术。TOPCon有很多技术路线，一道新能坚持左边的技术路线，从2018年建第一条线就是用LPCVD的，也是从单插片逐渐过渡到双插片，最重要的
全产业链N型TOPCon新生态已形成。我总结的三大挑战和机遇，现在看来都在慢慢的落实当中，比如说LPCVD还是PECVD?浆料部分的配合，在多晶硅减薄方面做了大量的努力选择性发射极，去年的时候SE技术在
够提升SiOx/Poly-Si钝化接触性能，也能进一步降低对到达电池背面长波长光的吸收。TOPCon3.0使用低压化学气象沉积(LPCVD)超薄的高质量多晶硅薄膜，这是基于热分解的多晶硅薄膜生长技术
响应强、高转换效率的N型电池技术，为国内外客户带来更优的产品体验。在智能制造车间，经历制绒、硼扩、 LPCVD、磷扩、丝网烧结、测试等多道工序，第一片N型TOPCon电池片在基地领导、技术人员的期待中
掺磷多晶硅层的制备中，有LPCVD、PECVD、PEALD等方案，公司如何看待不同方案的应用优劣势和渗透率?光伏电池片厂商尝试不同技术制备掺杂多晶硅，目前行业内存在多种技术路线制备TOPCon背面
核心设备。目前，薄膜沉积设备主要分为LPCVD、PECVD、PEALD三种技术路线，其中技术方案最为成熟的LPCVD是市场主流，市占率超过90%。不过，由于其存在绕镀（降低良率）、石英管寿命低（增加
，具有较高的技术壁垒，可广泛适用于不同场景下的薄膜沉积。公司自主研发的PEALD二合一产品，集成了PEALD和PECVD两种工艺，分别用于制备隧穿层和多晶硅层，能够弥补LPCVD技术存在的不足。 | 业绩
大致分为LPCVD本征+磷扩(低压力化学气相沉积法)、PECVD原位掺杂、PVD原位掺杂(即物理气相沉积法)。要做TOPCon，钝接结构制备是基础，但要做好TOPCon，正面硼扩散是相关企业要解决的
翎新能源在技术实力上恐与深圳普乐具有一定差距。据中科云网此前披露的信息显示，深圳普乐已掌握基于激光SE的N型TOPCon电池工艺、基于LPCVD的IBC电池工艺和基于激光掺杂的HBC电池工艺等多种超高
新能源在技术实力上恐与深圳普乐具有一定差距。据中科云网此前披露的信息显示，深圳普乐已掌握基于激光SE的N型TOPCon电池工艺、基于LPCVD的IBC电池工艺和基于激光掺杂的HBC电池工艺等多种超高
