氮化硅膜

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晶体硅背接触电池工艺需进一步简化来源: 发布时间:2013-05-19 00:09:59

有害杂质也会在高温条件下扩散到硅片体内。早期就有人提出SiNx是理想的减反射膜,而且还可以同时达到表面钝化和体内钝化的效果。PECVD法沉积的氮化硅的折射率可以通过调节反应气体的流量进行调整,一般可调

晶体硅背接触电池需进一步简化工艺来源:中国电子信息报 发布时间:2013-05-08 10:33:07

硅片体内。早期就有人提出SiNx是理想的减反射膜,而且还可以同时达到表面钝化和体内钝化的效果。PECVD法沉积的氮化硅的折射率可以通过调节反应气体的流量进行调整,一般可调范围在1.9~2.5之间
的电子传导到背电极上,电池的P型电极和N型电极的细栅全部交叉排列在电池背面,简化了封装工艺。前表面依然采用优良的金字塔结构和减反射膜,以减少光的反射损失,从而达到了提高电池效率的目的。 与传统

太阳能晶体硅背接触电池需进一步简化工艺来源:中国电子报 发布时间:2013-05-07 23:59:59

硅片少子寿命的下降,并引起衬底掺杂浓度的再分布。许多有害杂质也会在高温条件下扩散到硅片体内。早期就有人提出SiNx是理想的减反射膜,而且还可以同时达到表面钝化和体内钝化的效果。PECVD法沉积的氮化硅

日立化成开发出可蚀刻SiN的浆料,用于太阳能电池等领域来源:日经BP社 发布时间:2013-01-31 23:59:59

索比光伏网讯:日立化成开发出了可蚀刻氮化硅(SiN)的浆料,并在第12届国际纳米技术综合展(nano tech 2013)上展出。只要利用丝网印刷工艺使该浆料成形,便可只去除浆料下面的SiN。日立
化成的目标是将这种浆料用于太阳能电池及MEMS制造工序等。 在结晶硅型太阳能电池的制造工序中,通常要在硅电池单元的受光侧用SiN形成防反射膜。而且在该防反射膜上形成Ag电极后,还要进行Fire

黄河光伏测试背钝化和RIE技术 提升单多晶电池转换效率来源:PV-TECH 发布时间:2013-01-25 09:22:48

,然后再在该膜的基础上生长一层氮化硅进行保护。通过在背钝化膜层采用激光开孔工艺,结合背钝化铝浆和相匹配的烧结工艺,通过降低背面复合速率,提高该开路电压实现单晶电池转换效率的提升。 多晶硅

黄河光伏高效太阳能电池技术研发取得突破性进展来源:世纪新能源网 发布时间:2013-01-20 23:59:59

氧化铝膜层,然后再在该膜的基础上生长一层氮化硅进行保护。通过在背钝化膜层采用激光开孔工艺,结合背钝化铝浆和相匹配的烧结工艺实现单晶电池转换效率的提升。多晶硅高效电池的研发主要攻关RIE电池技术。RIE

江西省光伏产业“十二五”发展规划(全文)来源: 发布时间:2012-11-15 08:50:18

创造了国际硅料行业的多个单项第一。瑞晶公司光学掩膜高吸光多晶硅太阳能电池被鉴定为国内领先水平,所产太阳能电池片平均转换效率达到16.35%,单片转换效率最高达17.03%。中材公司在高压陶瓷坩埚等配套
平衡控制技术。开发大中小型太阳能并网、离网发电系统、太阳能照明等应用系统、太阳能光伏汽车、太阳能水泵等光伏应用产品。6、配套产品。大力发展高储能蓄电池、逆变器、坩埚、粘合剂、氮化硅、线切割材料、封装材料

第八届中国太阳级硅及光伏发电研讨会议程来源:上海市太阳能学会 发布时间:2012-11-13 08:50:22

、太阳电池背膜发展现状及新一代背膜技术发展趋势 苏州中来光伏新材科技股份有限公司 林建伟 9、PV market: current situation, roadmap and the role
韩华新能源(启东)有限公司 8、 少子寿命在单晶硅太阳电池生产中的变化研究------中科院微电子研究所 刘金虎 9、 多晶硅锭坩埚涂层用氧氮化硅粉体的合成-------------南昌大学光伏

【光伏技术】7.7 高效晶体硅太阳能电池-OECO电池来源: 发布时间:2012-08-21 15:05:01

排列整齐的方形沟槽组成,浅发射极n+位于硅片的上表面,在其上有一极薄的氧化隧道层,Al电极倾斜蒸镀于沟槽的侧面,然后利用PECVD蒸镀氮化硅作为钝化层和减反射膜OECO电池有以下特点:(1)电极是蒸
。电池的制作具体过程为:前表面机械开槽化学腐蚀清洗背面掩膜(扩散)前表面化学制绒使用液态源POCl3进行磷扩散制作n+发射极打开背面接触真空蒸镀Al作为背电极前表面低温热氧化形成氧化隧道层前表面无需掩膜

太阳能电池多层膜检测难题得到解决来源: 发布时间:2012-05-29 17:36:10

太阳能电池检测工具RISE型光谱椭偏仪,不但能更精准的对薄膜电池多层减反膜进行测量分析,同时也成功地解决了衬底制绒的晶硅电池多层减反膜的测量分析问题。自2011以来,行业持续低迷,很多光伏企业将主要精力都放在
了提升产品效率,以便使自身更具竞争力。在提升效率过程中,之于每个工艺的控制就显得格外重要。例如,对于晶体硅电池的核心工艺的PECVD,为了既获得良好的钝化又能有更低的反射,很多厂家都推出了双层氮化硅