RPD

、通威股份、东方日升等。多家机构认为，钙钛矿产业化进程持续加速，未来2-3年各企业百兆瓦中试线及GW级量产线有望加速落地，PVD/RPD设备、激光设备厂商、TCO玻璃等环节将显著受益。

技术，服务龙头企业” 的战略，积极深入研发PECVD/Cat-CVD/RPD/PAR/PVD、印刷/铜电镀/新型组件焊接等先进技术和装备，积极推进HJT的产业化发展，为光伏新能源行业贡献力量。从HJT

层钙钛矿领域的设备销售持续放量，设备种类涵盖RPD、PVD、PAR、CVD、蒸发镀膜及精密狭缝涂布、晶硅叠层印刷等。公司在钙钛矿及钙钛矿叠层MW级量产型整线装备的研发和供应能力，获得了越来越多客户的

形成薄膜，共有三种实现方式，分别为蒸发镀膜、磁控溅射镀膜(PVD)、等离子源镀膜(RPD)。在钙钛矿层制备中，主流使用方法为蒸发镀膜，简称蒸镀法。蒸镀法：将镀膜材料(靶材)放置于腔室中，利用分子泵抽低腔
形成薄膜。RPD法：在真空条件下，通过等离子强产生的等离子体在磁场作用下轰击靶材，靶材升华后沉积至沉底上形成薄膜。真空镀膜法对比资料来源：公司公告，公司官网，中金公司研究部与溶液涂布相比，真空镀膜的

主要供应商为上海德沪和日本东丽等。两台PVD磁控溅射设备：空穴传输层、背电极各一台，价值量合计2000万元，价值量占比~17%;目前市场主要供应商为京山轻机、德国莱宝、梅耶博格、湖南红太阳等。一台RPD反应
需求。根据不同的钝化层材料方案，初步来看大面积选用涂布机制备钝化层;若用盐类材料做修饰层则可能选用蒸镀设备;若用金属氧化物则可能选用RPD或者ALD设备。另一方面，传输层真空镀膜路线亦有诸多变种。背电极

23.5%，与PERC相比高出1%。其次是技术储备。目前PECVD+PVD是新建产能的主流选择。非晶硅薄膜沉积有PECVD与HWCVD两种路线，TCO沉积有PVD与RPD两种路线。从投资角度

发展。随着国产设备替代比例上升，技术成熟化，预计异质结未来发展前景广阔。Q&AQ1:低温银浆和RPD设备的国产化率如何?a1:低温银浆最早被日本垄断，每公斤成本比传统银浆高2000-3000元。近5年
代替。b1:RPD设备也起源于日本，国内佳捷伟创获得了日本公司的授权，招募许多研发人员，做的比较成功。公司此前也宣布可以为异质结电池提供全套产线。目前国内只有这一家公司在做，但国产化在稳步推进。Q2

透光率、方块电阻的影响，沉积时间对IWO薄膜电导率的影响。01、氧氩比对IWO薄膜透光率的影响真空度抽至1.5×103PA以下，将RPD枪头氩气调至180SCCm保障正常启辉，固定枪头氩气流量Ar2
不变的同时气体总流量也保持不变，氧气流量虽然增加，但氧气的离化减弱，平均到每个氧离子中的能量减弱，从而参与到反应中的氧并没有随着氧气含量的增加而增加。03、沉积时间对IWO薄膜电导率的影响将RPD枪头

光伏企业的钙钛矿电池蒸镀设备项目。据了解，经过不懈的努力，捷佳伟创积极稳健推进钙钛矿及叠层电池整线装备的研发及升级，公司持续深入开发并获得了狭缝涂布、PVD/RPD、蒸发镀膜等设备订单，有力协助了大量知名