等离子体

等离子体增强化学气相沉积，简称PECVD和扩散）提供可靠的无泄漏性能。这些和其它工艺需要低泄漏率以确保安全性、工艺气体纯度控制及精确气体传输，以便保证电池的整体性并降低废品率。 世伟洛克光伏工艺

n型的开/关比达到大约6位数，而p型只有2位数左右，因此，恐怕很难直接用于CMOS电路。 　　日本广岛大学利用热等离子体喷射技术试制了TFT（论文编号P-4）。由于装置的结构简单、容易实现多喷嘴化
，因此，热等离子体喷射技术足以支持大型底板制造（图1）。TFT的特性依赖于扫描速度，在350mm/秒时迁移率为12cm2/Vs，在400mm/秒时迁移率为5.4cm2/Vs。虽然1V/位数左右的S值稍微

、自动化系统、焊带切割设备、停放台、装配线、组件装卸系统、 运送装置、焊剂熔化炉 薄膜电池光学检测系统、薄膜电池厚度测量器、薄膜电池成分检测器,、薄膜电池寿命分析器、 薄膜电池等离子体化学

源与样品的关系上可以分成两种类型： 直接法：样品直接接触等离子体，样品或样品的支撑体就是电极的一部分。 间接法：或称离域法。待沉积的样品在等离子区域之外，等离子体不直接打到样品表面，样品或其支撑体也
电极，与样品支架形成一个放电回路，在腔室中的工艺气体在两个极板之间的交流电场的作用下在空间形成等离子体，分解SiH4中的Si和H，以及NH3种的N形成SiNx沉积到硅表面。这种沉积系统目前主要是日本

CELL奖项得主。评审团将欧瑞康太阳能的KAI 1200 PECVD（等离子体增强化学气相沉积）系统评为“薄膜组件生产最佳技术产品”。“我们对于这一成就以及欧瑞康技术的领先性及适用于生产的设备受到认可而
用以使用。 欧瑞康太阳能的KAI 1200 PECVD（等离子体增强化学气相沉积）是用来沉积硅吸收层的设备，这是欧瑞康太阳能非微晶叠层(Micromorph)薄膜硅光伏技术的核心部分。这些层的沉积是薄膜

级硅（6N）的低成本、高效率、大规模生产。　　采用本技术方法，不会像西门子法一样产生大量有害副产物，也突破了一般冶金法提纯需要等离子体或电子束等高能粒子处理设备的成本和规模限制，同时，生产的高纯硅优于

薄膜制备过程中，微粒和分子清洁度对高工艺产出起着至关重要的作用。对于化学气相沉积（CVD）工艺腔室而言，由对氟气或含氟气体进行加热或等离子体活化产生的氟自由基是首选的原位清洗剂。它们与CVD薄膜
机台上进行腔室清洗时，相比三氟化氮或三氟化氯，氟气因为既能够减少清洗时间又仅需较低温度从而延长了腔室石英元件的寿命，因此已经在全世界被广泛使用。在单一基本平台上进行的独立研究表明只需用原位射频等离子体

在等离子体中不够稳定，因此目前ITO镀膜已非光伏电池主流的电极玻璃。 　　SnO2镀膜也简称FTO，目前主要是用于生产建筑用Low-E玻璃。其导电性能比ITO略差，但具有成本相对较低，激光刻蚀容易
研究进展迅速，材料性能已可与ITO相比拟，结构为六方纤锌矿型。其中铝掺杂的氧化锌薄膜研究较为广泛，它的突出优势是原料易得，制造成本低廉，无毒，易于实现掺杂，且在等离子体中稳定性好。预计会很快成为新型的

员工。同时，它也会吸引更多做研究的UNSW学生。 Roth & Rau是提供将等离子体（Plasma）和离子束（ion beam）技术应用于薄膜和表面处理的加工设备及零部件的供应商。其产品被应用于
许多工业领域，其中包括进行太阳能电池生产加工的大型PECVD设备也有适用于大学及科研机构进行研发和小规模生产的小型设备。产品的组成主要包括了不同尺寸的等离子体源和离子束源(plasma and ion

方面的技术，这主要是一项能够在很薄的材料上读写数据的一项技术。 使用类似的技术将用来生产电池板，一般使用一种叫PECVD的设备，借助等离子体将气体的氮化硅均匀的沉淀下来，生成片基。从而高质量地来防止