等离子体

。 2月中旬，欧瑞康收到了东旭集团购买2台KAI设备的订单。KAI设备是一个全自动化的PECVD（等离子体增强化学气相沉积）系统，作为行业内1.4 m2太阳能组件大规模生产的核心设备。该系统为非晶

德累斯顿（Dresden）佛劳恩霍夫研究所（Fraunhofer Institute），研究人员在集中开发大气压等离子体化学蚀刻（AP-PCE：atmospheric pressure plasma
chemical etching）工艺。这项技术可以替代湿化学处理方法（wet chemical processing approach），用于太阳能产业。优势在于，大气压等离子体化学蚀刻胜过蚀刻技术

速度最快的等离子体化学气相沉积（PCVD）设备。三菱重工认为目前光伏市场日益全球化，除了传统的欧洲市场，印度等东南亚市场也在稳定的逐步发展，在这些热带气候的地区薄膜光伏组件拥有更大的优势。在三菱重工看来

上，美国国家核能聚变实验所等离子体物理学家谢中立教授、中科院太阳能光热中心裴刚教授、中国科学院电工研究所姚志豪博士、美国可再生能源集团高级顾问傅可夫等专家分别进行了主题演讲。来自光热发电领域的专家

能源设备有限公司，已经成功地研制出低压化学气相沉积设备(LPCVD)、等离子体增强型化学气相沉积设备(PECVD)，填补了光伏电池高端设备国产化的空白，其成本也随之降低20%。辅之技术的创新，我们的

）具有半导体物理、电子工程、薄膜物理、真空技术、等离子体等方向博士学位，有国外学习背景者优先考虑。（2）在硅基薄膜制备技术、制备装备等领域有独立科研或工程经验，有相关论文发表。（3）具备敏锐的科学思维
人部门及专项支持：表面工程事业部任职要求：（1）具有从事薄膜制备、真空机械、等离子体技术等方向工作和学习背景的工程技术人员。（2）在硅基薄膜制备技术、PECVD装备制造维护等领域有工作经验，有相关论文和

和多晶硅片的工艺特点以及后续有关电池制作的一系列创新工艺，分析了相关技术进行产业开发的前景。曹则贤研究员介绍了低温等离子体辅助低温沉积硅薄膜的研究工作，阐述了活性等离子体在硅薄膜低温沉积技术中的独特

领域作为市场化突破口，凭借在半导体装备领域的技术优势，他们推出高温扩散炉和等离子体刻蚀机，并逐渐垄断国内市场。到2005年现任所长唐景庭上任时，适逢国内光伏产业兴起，48所因之时来运转，成为赛维LDK
光伏产业之后的相当一段时间里，只是在高温扩散炉和等离子体刻蚀机获得迅速突破，投资比重大、也更为重要的铸锭炉和切割机等关键设备，依然是一片空白。国内光伏产业也在积聚数年后于2006年前后迅猛爆发，在此背景下

、封装线等，而氢化炉、多线切割机、自动焊接机等设备仍需进口，但未来都有望逐渐实现国产化。 　　今年初，我国首台代表着国际尖端技术水平的薄膜太阳能电池关键生产装备——等离子体增强型化学气相沉积装备

氢化炉、多线切割机、自动焊接机等设备仍需进口，但未来都有望逐渐实现国产化。 　　今年初，我国首台代表着国际尖端技术水平的薄膜太阳能电池关键生产装备等离子体增强型化学气相沉积装备（PECVD）在上海理想