表面等离子

产业成为我国未来抢占经济发展制高点、提升能源国际竞争力的重要支撑之一。　　正在实现的飞跃 　　太阳能资源储量丰富 我国具有非常丰富的太阳能资源。据不完全统计，陆地表面每年接受的太阳辐射能约为
主导。其中，扩散炉、等离子刻蚀机、清洗制绒设备已达到或接近国际先进水平，性价比优势十分明显。但是，多晶电池绒面制作的制绒机与进口设备还有一定差距，用于周边刻蚀的激光刻阻机及湿法化学刻蚀设备尚未成功开发

洛克过去在半导体是以超高纯制程规范 SC-01为主，不过太阳光电制程规范SC-06则有所不同，SC-06不需要在无尘室进行，也没有电抛光等表面化学处理(surface chemietry)流程，成本
对于高质量表面精度、可视检查标准和颗粒计数的规定，这些对于太阳光电产业确保其产品可靠性，及延长正常运行时间的制程控制都是必需的，同时也对可控制成本的部分，例如工作区域分类、分析和包装进行规范。 世伟

洛克大中华区总 裁贾子章补充道。“世伟洛克还准备与SEMI合作，使SC-06规范成为光伏行业标准。” SC-06规范基本要求包括对高质量表面精度、可视检查标准和颗粒计数的规定，这些对于
等离子体增强化学气相沉积，简称PECVD和扩散）提供可靠的无泄漏性能。这些和其它工艺需要低泄漏率以确保安全性、工艺气体纯度控制及精确气体传输，以便保证电池的整体性并降低废品率。 世伟洛克光伏工艺

，一般都采用表面织构化、发射区钝化、分区掺杂等技术，开发的电池主要有平面单晶硅电池和刻槽埋栅电极单晶硅电池。提高转化效率主要是靠单晶硅表面微结构处理和分区掺杂工艺。在此方面，德国夫朗霍费费莱堡太阳能系统
研究所保持着世界领先水平。该研究所采用光刻照相技术将电池表面织构化，制成倒金字塔结构。并在表面把一13nm。厚的氧化物钝化层与两层减反射涂层相结合．通过改进了的电镀过程增加栅极的宽度和高度的比率：通过

美国科学家最近发展出一种方法，能在金属薄膜表面制作非常平坦的图案，使表面等离子(surface plasmons)在薄膜上的传播距离得以加倍。这种名为模版剥离(template stripping
另一个优点是能重复使用，目前研究人员已使用相同模版超过30次，而且以这种方法制作出银的牛眼结构(bulls eyes)、金质金字塔、三角形沟槽以及纳米洞阵列等结构。为了测试表面等离子在上述表面的传递

电力的电极表面，积层配置金的微粒子；金的微粒子表面，则涂上使光转换成电的染料phthalocyanine，以增加受光的表面积，提高发电效率。山田教授试制在氧化铟锡的电极上排列微粒子的太阳能电池，以研究

），以增加入射光的面积。 　　另外硅表面非常光亮，会反射掉大量的太阳光，不能被电池利用。为此，科学家们给它涂上了一层反射系数非常小的保护膜（如图），将反射损失减小到5％甚至更小。一个电池所能提供的电流
上制成的，这种硅片从提拉或浇铸的硅锭上锯割而成。 上述方法实际消耗的硅材料更多。为了节省材料，目前制备多晶硅薄膜电池多采用化学气相沉积法，包括低压化学气相沉积（LPCVD）和等离子增强化学气

源与样品的关系上可以分成两种类型： 直接法：样品直接接触等离子体，样品或样品的支撑体就是电极的一部分。 间接法：或称离域法。待沉积的样品在等离子区域之外，等离子体不直接打到样品表面，样品或其支撑体也

薄膜制备过程中，微粒和分子清洁度对高工艺产出起着至关重要的作用。对于化学气相沉积（CVD）工艺腔室而言，由对氟气或含氟气体进行加热或等离子体活化产生的氟自由基是首选的原位清洗剂。它们与CVD薄膜
——Si、 SiO2、Si3N4、SiON、W、WSix、TiN、Al等——以及有机污染物有很高的反应性，加上反应产物具有挥发性，这确保了腔室表面的微粒和 分子污染物能够清洗干净。可持续性是我们衡量工艺进步

　　TCO（Transparentconductingoxide）玻璃，即透明导电氧化物镀膜玻璃 ，是在平板玻璃表面通过物理或者化学镀膜的方法均匀镀上一层透明的导电氧化物薄膜，主要包括In、Sn
　　在太阳能电池中，晶体硅片类电池的电极是焊接在硅片表面的导线，前盖板玻璃仅需达到高透光率就可以了。薄膜太阳能电池是在玻璃表面的导电薄膜上镀制p-i-n半导体膜，再镀制背电极。 　　透明导电氧化物的