离子体反应腔

近日，我国首台代表国际尖端水平的薄膜太阳能电池关键生产设备等离子体增强型化学气相沉积设备（ＰＥＣＶＤ）在上海成功下线，这被视为中国在新能源高端装备领域取得的零的突破。中国制造的ＰＥＣＶＤ性能领先于
总经理钱学煜介绍，一片１．１米１．４米的普通平板玻璃完成导电层覆膜后，进入ＰＥＣＶＤ反应腔，完成化学气象材料叠层结构的覆膜，厚度增加了两个微米，即成为转化率可达１０％的薄膜太阳能电池。　 ２００９

据悉，我国首台代表国际尖端水平的薄膜太阳能电池关键生产设备等离子体增强型化学气相沉积设备(PECVD)1月8日在上海理想能源设备公司(下文简称理想能源)成功下线，打破了高端薄膜太阳能电池设备一直被
国外厂商垄断的局面，并有望大幅降低太阳能发电成本。在生产车间，理想能源总经理钱学煜介绍，一片1 .1米1 .4米的普通平板玻璃完成导电层覆膜后，进入PECV D反应腔，完成化学气象材料叠层结构的覆膜

　　8日，我国首台代表国际尖端水平的薄膜太阳能电池关键生产设备等离子体增强型化学气相沉积设备(PECVD)在上海理想能源设备公司(下文简称理想能源)成功下线，打破了高端薄膜太阳能电池设备一直被国外
厂商垄断的局面，并有望大幅降低太阳能发电成本。 　　在生产车间，理想能源总经理钱学煜介绍，一片“1 .1米×1 .4米”的普通平板玻璃完成导电层覆膜后，进入PECV D反应腔，完成化学气象材料叠层结构

电极，与样品支架形成一个放电回路，在腔室中的工艺气体在两个极板之间的交流电场的作用下在空间形成等离子体，分解SiH4中的Si和H，以及NH3种的N形成SiNx沉积到硅表面。这种沉积系统目前主要是日本
SiNx膜的方法有很多种，包括：化学气相沉积法（CVD法）、等离子增强化学气相沉积（PECVD法）、低压化学气相沉积法（LPCVD法）。在目前产业上常用的是PECVD法。 PECVD法按沉积腔室等离子

薄膜制备过程中，微粒和分子清洁度对高工艺产出起着至关重要的作用。对于化学气相沉积（CVD）工艺腔室而言，由对氟气或含氟气体进行加热或等离子体活化产生的氟自由基是首选的原位清洗剂。它们与CVD薄膜
机台上进行腔室清洗时，相比三氟化氮或三氟化氯，氟气因为既能够减少清洗时间又仅需较低温度从而延长了腔室石英元件的寿命，因此已经在全世界被广泛使用。在单一基本平台上进行的独立研究表明只需用原位射频等离子体