离子体反应腔
涂(动力来源:通过电斥力)。4)喷墨打印法喷墨打印法是通过控制打印腔内压力的变化将前驱体墨水从打印头喷出并打印到预沉积基底上的一种薄膜沉积方法。该方法也是一种非接触式的薄膜沉积技术，喷嘴与基底之间没有
)，高电压下氩气辉光放电，电离的氩离子在电场力作用下加速轰击放置在阴极的靶材，被溅射出的靶材分子沉积在基片表面形成薄膜。3)离子镀膜：真空条件下，通过等离子体电离技术离化镀料靶材，靶材分子部分电离
形成薄膜，共有三种实现方式，分别为蒸发镀膜、磁控溅射镀膜(PVD)、等离子源镀膜(RPD)。在钙钛矿层制备中，主流使用方法为蒸发镀膜，简称蒸镀法。蒸镀法：将镀膜材料(靶材)放置于腔室中，利用分子泵抽低腔
、生物刺激素、昆虫信息素、天敌昆虫、微生物除草剂80.废气、废液、废渣综合利用和处理、处置81.有机高分子材料生产：飞机蒙皮涂料、稀土硫化铈红色染料、无铅化电子封装材料、彩色等离子体显示屏专用系列光刻浆料
、制造、建设和运营（含锂离子电池、液流电池、压缩空气、飞轮、氢储能等各类储能技术）417.电力源网荷储一体化和多能互补电源建设五、交通运输、仓储和邮政业418.铁路干线路网及铁路专用线的建设、经营419.
、捷佳伟创等企业均有部分产品实现交付。例如捷佳伟创的“立式反应式等离子体镀膜设备” （RPD）已通过厂内验收，并交付客户；晟成光伏的钙钛矿电池团簇型多腔式蒸镀设备已实现量产，并成功应用于多个客户端；迈为股份的
，电耗偏高。而PECVD，凭借良好的质量和稳定性成为主流非晶硅薄膜沉积设备，特别在制备氢化非晶硅方面。 板式PECVD通过微波或射频波使腔室内的反应气体分子电离，形成的高化学活性等离子体，在基片表面发生化学反应
形成一个放电回路，在腔室中的工艺气体在两个极板之间的交流电长的作用下在空间形成等离子体，分解SiH4中的Si和H，以及NH3中的N形成SiNx沉积到硅表面。优势：技术最成熟，易实现大面积均匀性，材料缺陷
)、应用材料等。国内厂商包括：迈为股份、金辰股份、捷佳伟创、理想能源、钧石能源等。
板式PECVD：将多片硅片放置在一个石墨或碳纤维支架上，放入一个金属的沉积腔室中，腔室中有平板型的电极，与样品支架
上，放入一个金属的沉积 腔室中，腔室中有平板型的电极，与样品支架形成一个放电回路，在腔室中的工 艺气体在两个极板之间的交流电长的作用下在空间形成等离子体，分解 SiH4 中的 Si 和 H，以及 NH3
：将多片硅片放置在一个石墨或碳纤维支架上，放入一个金属的沉积 腔室中，腔室中有平板型的电极，与样品支架形成一个放电回路，在腔室中的工 艺气体在两个极板之间的交流电长的作用下在空间形成等离子体，分解
12月29日，上海理想万里晖薄膜设备有限公司在上海临港新片区的研发实验中心隆重举办了理想万里晖临港研发实验中心落成启用暨第100台等离子体反应腔出厂启运仪式。 当天，上海市和临港新片区的领导、客户
靶材表面的原子脱离晶格逸出沉积在衬底 表面发生反应而形成薄膜;RPD 法利用等离子体枪产生氩等离子体，氩等离子体进入生长腔后，在磁场作用下轰击靶材，靶材升华形成蒸气实现薄膜沉积。PVD 技术的优势
