离子体反应腔

为系统工程，存在难度但潜力可期 (一)技术路线优势各异，降本提效殊途同归 等离子体增强化学气相沉积(PECVD)指借助微波或射频波使腔室内的反应气体分子电离，形成的高化学活性等离 子体在基片表面

，样品置于低气压下辉光放电的阴极上，利用辉光放电(或另加发热体)使样品升温到预定的温度，然后通入适量的反应气体，气体经一系列化学反应和等离子体反应，在样品表面形成固态薄膜。PECVD方法区别于其他CVD

经过加速的高能粒子轰击靶材，使靶材表面的原子脱离晶格逸出沉积在衬底 表面发生反应而形成薄膜;RPD 法利用等离子体枪产生氩等离子体，氩等离子体进入生长腔后，在磁场作用下轰击 靶材，靶材升华形成蒸气

步工艺流程，但设备投资过高 ◼ 电池生产所需材料昂贵 主流工艺流程 整线设备：(1)制绒清洗设备(2)板式等离子体增强化学气相沉积设备(3)反应式等离子体镀膜设备(4
)丝网印刷设备 捷佳伟创异质结电池全工序装备总结 制绒设备，在洁净度、能耗、智能制造等方面全面提升 PECVD反应腔无托盘设计，没有交叉污染问题进而提高Voc RPD比SPT效率高

是在漂浮的等离子体中暂停反应，这样极端的热量就不会接触到腔室，研究人员认为这一过程可以通过使用高功率磁铁来实现。 大量报道认为，人类要用上核聚变能源，还需要30年时间，但麻省理工学院的一个研究小组

复合对，光致衰减较P型硅片大幅改善【2】，且其少子为带正点的空穴，一些常见的金属离子例如Fe+，Cu+，Ni+对其体寿命的影响较小，N型硅片的少子寿命往往高于P型硅片。另外，N型电池组件还具有弱光响应好
引入变频隔膜真空泵，在工艺过程中，随着工艺气量的变化，腔室始终稳定在一定的低压条件，在石英管内形成了稳定的气流方向。BBr3进入反应腔室后，在850-900℃条件下，与氧气反应生产的液态B2O3在

商业利用还有很多技术问题需要克服。 2.1.2 喷涂热解法 通常把反应物以气溶胶(雾)的形式，一般是通过惰性气体引入反应腔中，在衬底上 沉积制备吸收层薄膜。衬底通常要保持在高温状态，使化学原料发生