硅片清洗设备

平均功率将从目前的315W增加到325W，降低组件环节BOM成本2分/瓦，降低电站环节面积相关BOS成本3分/瓦，合计5分/瓦。 2.3 大硅片产业化已经开始 电池和组件设备产能是按照通量计算的
BOS成本4-8分/瓦，合计8-13分/瓦。M12目前尚未有出货，如果能顺利导入，降本效果将更加显著。 大硅片可以有效降低系统成本，这在半导体和光伏产业都已得到验证，但由于导入M6需要对现有设备进行

，并且2020年Q2-3将有一批标杆项目投运。装备方面，过去两年主要装备企业在转化效率等方面获得较大进展，国内相关装备上市公司也多将HIT作为重点投入方向。设备端清洗制绒、PVD/RPD、丝网印刷都已
更好的钝化效果。 2) 制备非晶硅薄膜：硅片在PECVD设备中制做钝化膜和PN结。HIT的高效率根源于本征非晶硅薄膜优良的钝化效果。晶硅表面存在大量的悬挂键，光照激发的少数载流子到达表面后

硅块硅锭生产设备：全套生产线、铸锭炉、坩埚、生长炉、其他相关设备 硅片晶圆生产设备： 全套生产线、切割设备、清洗设备、检测设备、其他相关设备 电池生产设备： 全套生产线、蚀刻设备、清洗设备、扩散炉

公开信息，该项目可能使用的是M4硅片(可能因MB的设备目前最大尺寸兼容为M4)，并采用了智能串焊技术，60片半片封装，组件尺寸1721*1016*30mm。单面组件的峰值功率达380W，平均功率370W
，制备过程只有清洗制绒、PECVD镀本征和掺杂非晶硅薄膜、PVD镀金属导电膜、丝印烧结等步骤(较现行路线少了3-4个步骤)，未来HJT生产也将更智能化，长期降本可能主要集中在耗材、设备上。 REC目前

。 工艺：核心工艺与PERC完全不同 异质结电池四步核心工艺为清洗制绒、非晶硅薄膜沉积、导电膜沉积、印刷电极与烧结。与PERC工艺的区别在于：1)非晶硅薄膜沉积环节，使用PECVD或RPD沉积本征
氢化非晶硅层和P型/N型氢化非晶硅层;2)镀膜环节使用PVD沉积TCO导电膜;3)印刷电极方面需使用低温银浆;4)烧结过程需控制低温烧结。 成本：设备与耗材未来降本空间大 目前异质结电池

节能报告。 该项目位于云南省楚雄州禄丰县，项目总投资约148555万元，建设内容和规模：租赁定制厂房和配套生产及生活建筑设施(由政府实施建设)，购置金刚线切片机、脱胶机、插片与清洗机、分选机等生产设备
和检测仪器、工器具等，项目建成投产后，实现年产10GW，对应约20亿片单晶硅片的生产能力。本项目为楚雄隆基新建项目，项目使用厂房、生产设备及辅助生产设备均不与一期项目共用。 项目建成后年综合能耗约为

于我国良好的半导体产业发展基础，我国光伏设备企业从硅材料生产、硅片加工、太阳电池与光伏组件的生产，到相应的纯水制备、环保处理、净化工程的建设，以及与光伏产业链相应的检测设备、模拟器等，已经具备成套供应

于我国良好的半导体产业发展基础，我国光伏设备企业从硅材料生产、硅片加工、太阳电池与光伏组件的生产，到相应的纯水制备、环保处理、净化工程的建设，以及与光伏产业链相应的检测设备、模拟器等，已经具备成套供应

正围绕光伏制造展开，其中包括潞安集团。 这家全国重点煤炭企业早在2009年便成立潞安太阳能正式跨行光伏业，并建立了从硅料清洗、单晶拉制、多晶铸锭到硅片加工、电池生产及组件封装的垂直一体化产业链。然而
高效PERC的快速布局，从而提前收获市场红利，潞安太阳能对市场新变将保持快速响应，特别是高效技术迭代。 针对大尺寸硅片技术升级，潞安太阳能已具备1.5GW电池生产线，全部生产166双面电池，明年将扩产

%;单晶趋势愈加明确。单晶硅片厂商积极进行产能扩张，带动单晶炉等设备需求持续旺盛。 电池片：高效电池未来大有可为，技术升级带动设备需求。电池片生产过程中主要用到制绒清洗设备、扩散炉、刻蚀设备、PECVD