湿法黑硅

表面质量方面，提升方法主要有：控制湿法黑硅制绒片的反射率、加大隐裂检查、降低表面金属离子残留、减少线痕等。 沿着这些路径，保利协鑫进行了多种高效产品的研发，并提供定制化产品解决方案以满足市场需求
%;其中300W以上的比例超过56%。 湿法黑硅技术提供了高效多晶硅片的另一种选择。保利协鑫研发的TS+第二代黑硅片，制绒成本降低约30%，背面抛光工艺并更适用于PERC技术。通过一系列工艺技术优化

之前金刚线切割多晶硅片并没有被大规模应用。2017年，金刚线切割多晶的问题通过引入黑硅工艺得到解决。金刚线切多晶可以直接降低硅片成本0.5-0.8元/片，阿特斯等企业的湿法黑硅加工成本在0.1元/片

，他们有信心通过不断优化以后，保证使用添加剂的硅片转换效率不降低，60片标准组件的功率可以做到270W。 湿法黑硅技术目前每张硅片需要增加0.2元的成本，效率也有所提升，但电池片的组件封装损失过大
，主要原因是：湿法黑硅技术增加了蓝光的吸收，而光伏玻璃有阻挡了蓝光的入射，所以导致封装损失过大。 湿法黑硅技术的主要推动者保利协鑫，最近发布了新一代湿法黑硅技术，最终的60组件的封装功率可以做到275W

——黑硅技术不仅解决了金刚线切多晶硅片的反射率过高问题，还能附带一定电池效率的提升。保利协鑫自主研发的“湿法黑硅”解决了电池应用上的技术难题，光电转换效率可提升0.3-0.4个百分点以上，未来可进一步提升

，近期利润都较为紧缩的电池片也已经止跌。 尤其多晶电池部份，近期组件厂需求提升至18.6%以上、甚至也有部分订单要求需要达到18.7%，在专业电池片厂家大多未大幅导入湿法黑硅制绒的情况下，转换效率

较为紧缩的电池片已经止跌。 尤其多晶电池部份，近期组件厂需求提升至18.6%以上、甚至也有部分订单要求需要达到18.7%，在专业电池片厂家大多未大幅导入湿法黑硅制绒的情况下，转换效率18.7%以下的

、东方日升、无锡尚德、比亚迪、苏美达等公司。黑硅技术的成熟技术路线主要有干法(RIE)黑硅和湿法(MCCE)黑硅两种。两种技术对硅片表面不良尤其是线痕都有很好的处理，且提效非常明显，干法黑硅可提升效率