PECVD

焊接设备。 理想万里晖 最新PECVD装备 上海理想万里晖薄膜设备有限公司主营太阳能、泛半导体和半导体高端PECVD装备，系列光伏和AMOLED显示等领域高端PECVD系列产品多次打破国外垄断、填补国内空白，是中国高端PECVD装备的首选供应商。

(PECVD)设备、铜铟镓硒(CIGS)蒸镀等太阳能电池生产中关键工艺设备及相关辅助设备、应用于光电子领域的金属有机物化学气相沉积 (MOCVD)设备等。 公开资料显示，原子层沉积ALD属于化学气相沉积

)用于年产40台(套)光伏异质结(HJT)高效电池片用PECVD设备项目及补充流动资金。 据悉，金辰股份的经营计划是以现有业务为基础，借助资本市场平台，继续在光伏行业向上游扩展光伏产业链装备，在

生产、环保处理、净化工程，以及相关的光伏检测、模拟器等各类生产设备方面，绝大部分已经实现国产化供应，部分产品如湿法清洗设备、制绒设备、扩散炉、管式PECVD、印刷机、单晶炉、多晶铸锭炉、层压机、检测及

RPD设备已经在爱康中试研发线进行了引进，在后续扩产前将在某些关键工艺设备上实行共同研发，主要聚焦等离子化学气象沉积镀膜设备(PECVD)和新式TCO镀膜设备，双方将共同开发具有自主知识产权和技术
领先性。 理想万里晖 2019年，理想万里晖击败欧美设备公司，研制的国内首台高效100MW高效异质结太阳能电池用PECVD装备中标中威异质结太阳能项目。 同年，客户使用万里晖PECVD设备制备的

工艺，量产化困难度低。 图2. TOPCon 工艺流程图 目前用于生长高质量重掺杂多晶硅层的方法有LPCVD(低压化学气相沉积)和PECVD两种。一种是用LPCVD原位(或离位
)掺杂形成多晶硅，由于LPCVD沉积过程会带来绕镀问题，使电池性能退化，因此可选择离位掺杂，即LPCVD形成本征多晶后再进行扩散或离子注入掺杂，形成重掺杂的多晶硅;另一种是使用PECVD沉积掺杂非晶硅或微

中国产品的事件。光伏部分，中国出口进度的光伏产品，加征了40%关税。 后续影响，要看整个国际局势变化。 梅耶博格发布了一个新闻稿，申明自己在PERC电池技术上的PECVD的专利。应对韩华ALD专利问题。但是那些没有专利的PECVD(或者侵权MB公司的)会怎么样呢?

工艺为 RCA 清洗或臭氧(O3)清洗。本环节的目的是去除机械损伤层、降低表面反射率、提高表面清洁度。 非晶硅薄膜沉积：常用的工艺包括等离子体增强化学的气相沉积法(PECVD)与热丝化学气象沉积
。 HIT 电池产线所需设备包括制绒清洗设备PECVD/HWCVD 设备沉积非晶硅薄膜RPD/CVD 设备沉积 TCO 薄膜丝网印刷设备自动分选机。 非晶硅薄膜沉积设备和 TCO 薄膜沉积设备

HJT的转换有望带动设备需求爆发式增长，国产设备厂商在HJT的设备开发及验证进度方面已取得积极进展，尤其在瓶颈设备PECVD环节也已实现较大突破。

和M12均需要更换设备。在电池产线上，M10的投资成本和M6相近，与M12相比M10的升级成本更低。电池片扩散和沉积环节，当前在运和在建的管式 PECVD设备均基于传统单晶硅片尺寸进行设计，所能处理