CVD
已经过半，该设备的配置与应用材料公司公布的SunFab概念图相同。决定SunFab成败的等离子CVD(化学气相沉积)设备也已安装完毕，并接通了电源，MoserBaer光电公司称，即将开展玻璃底板的搬运
7MW的薄膜硅太阳能电池生产线，价格为750万～800万美元，不到其他制造设备厂商价格的一半。 此薄膜硅太阳能电池生产线中的层压机、等离子CVD装置和磁控管溅射器，都由HHV公司自行制造，而清洗装置
集成电路晶圆厂的''前段''(front-end)半导体制程所用的电子化学品和气体。该公司亦是在供应用来生产先进光伏电池的化学气相沉积先驱体(CVD precursors) 的 市场领导者
进行模块化。其中包括玻璃底板工艺、牺牲层应用工艺、反射镜成型工艺，铰链结构成型工艺等。另外，内面曝光、硅深蚀刻、CVD/PVD、内面研磨、CMP等工序也将列入模块化项目之中。 MEMS代工
CVD反应生产多晶硅。 这说明，生产厂商只要外购到生产多晶硅的核心原材料如三氯氢硅，就完全可以在其他地区生产多晶硅。记者在采访一些业内专家和厂商时也发现，目前大部分多晶硅生产厂商基本上以外购原材料
研究公司弗里多尼亚集团称，全球工业气体市场2005年达410亿美元，预计2010年将达510亿美元。 电子工业气体主要用于薄膜沉积，如化学气相沉积（CVD）或物理气相沉积（PVD法），这些技术主要
市场2005年达410亿美元，预计2010年将达510亿美元。 电子工业气体主要用于薄膜沉积，如化学气相沉积（CVD）或物理气相沉积（PVD法），这些技术主要用来制造半导体或光伏电池。三氟化
气相沉积（CVD）反应器和四氯化硅（STC）加氢转换装置。多晶硅是全世界生产太阳能电池板所用的主要原材料。 GT太阳能公司首席执行官Thomas Zarrella说：“我们很高兴地宣布与
具有国际先进水平的多晶硅技术方面迈出了战略性的一步，也为中钢集团以多晶硅项目为切入点，进军太阳能光伏产业奠定了坚实的基础。同时，中钢科技公司还分别与MSA公司、LXE公司就TCS反应器、CVD炉和STC/TCS转化
分离。接着，通过精馏使SiHC13与其它氯化物分离，经过精馏的SiHCl3，其杂质水平可低于10-10％的电子级硅要求。提纯后的SiHC13通过CVD原理制备出多晶硅锭。 通过在西门子法工艺
万m2。产品将首先面向欧美市场供应，未来还将瞄准中国市场。 新工厂的生产线中将导入等离子CVD装置、激光划线装置、溅射装置、封装装置等。爱发科将负责为烟台工厂提供生产线建设、试运转和生产指导
