新罕布什尔∙梅里马克,2016年6月16日GTAT Corporation(以下简称GT),作为GT Advanced Technologies集团的主要运营分支,于今日宣布,自从公司今年3月份走出
多晶硅,此外还包括对现有冷氢化反应流化床(FBR)系统和多晶硅还原炉CVD的升级改造。GT的冷氢化系统升级可提高TCS原产量达25%以上。GT最新的CVD还原炉升级技术可以减少电力消耗最高达25%。这些
沉积法(CVD)价格仍然高企。有关石墨烯的制备方法主要包括10 种。目前液相氧化还原法是量产的主要制备方法,制备的石墨烯价格可降至10 元/g 以下,成品多为粉材、浆料,可间接成膜,适合中低端应用
。另一种可量产的方法为气相沉积法(CVD),这种方法可直接制备石墨烯薄膜,质量更高,性能更好,但价格非常昂贵,未来若技术进步、需求放大带动规模效应,成本有望快速降低。
关注标的。对A股而言仍是新兴产业
应用的产业化取得破冰,将为医药、军工等多领域将带来突破性进展。液相氧化还原法是量产的主要制备方法,气相沉积法(CVD)价格仍然高企。有关石墨烯的制备方法主要包括10 种。目前液相氧化还原法是量产的主要
制备方法,制备的石墨烯价格可降至10 元/g 以下,成品多为粉材、浆料,可间接成膜,适合中低端应用。另一种可量产的方法为气相沉积法(CVD),这种方法可直接制备石墨烯薄膜,质量更高,性能更好,但价格
清洁玻璃膜层的性能和可靠性,与材料和其制造工艺都有密切关系。目前国内外制造超亲水自清洁玻璃的方法有很多种,包括脉冲激光沉积(PLD)法、化学气相沉积(CVD)法、化学液相沉积(CLD)法和溶胶凝胶
气相反应使含钛混合气体在玻璃沉积,生成结晶的纳米TiO2薄膜。采用CVD法制成的薄膜具有容易结、致密性好、纯度高等优点,非常适合规模化生产。同时工艺和沉积参数的调控可以实现精确控制薄膜杂量的效果,沉积
上午,中国企业华为对外宣布与曼彻斯特大学进行共同开发ICT领域的下一代高性能技术的合作研究,研究如何将石墨烯领域的突破性成果应用于消费电子产品和移动通信设备。
华为公司创始人任正非,此前多次谈到
2010年,韩国成均馆大学和三星公司的研究人员,就制造出由多层石墨烯和聚酯片基底组成的透明可弯曲显示屏。当时,论文通讯作者、成均馆大学教授洪秉熙就提出,他们的方法可用于制造基于石墨烯的太阳能电池、触摸
据集邦科技股份有限公司(台湾)旗下专业的新能源产业分析品牌集邦新能源网EnergyTrend统计研究显示,中国国家发展和改革委员会日前宣布,到2016年中国光伏电站上网电价(FIT)费率不会大幅
,价格将上升,然而由于以下几个因素,今年年底市场行情依然难以确定。
Corrine Lin 表示:首先,中国和美国持续性的光伏贸易争端以及反倾销和反补贴关税的审查结果(AD/ CVD)仍悬而未决。其次
切屑。现在,单晶硅锭的价格在2000日元/kg左右,其中1000日元/kg以上会变成切屑。此次开发的技术直到在三氯硅烷中混合H2,都跟原来的方法相同。不过,此后是利用化学气相沉积法(CVD)在实施了
过多、事实上很难实现的150m厚的硅晶圆,可以实现单晶硅薄膜太阳能电池。NexWafe公司利用EpiWafer试制了太阳能电池,已确认可获得高达20%的转换效率。该公司计划2017年初启动EpiWafer试验工厂,2017年下半年开始以每年最大250MW的规模量产EpiWafer。(记者:野泽 哲生)
,SiNx膜被制备在硅的表面起到两个最用,其一是减少表面对可见光的反射;其二,表面钝化作用。PECVD技术的分类用来制备SiNx膜的方法有很多种,包括:化学气相沉积法(CVD法)、等离子增强化学气相沉积
作为沉积腔室,使用电阻炉作为加热体,将一个可以放置多片硅片的石墨舟插进石英管中进行沉积。这种设备的主要制造商为德国的Centrotherm公司、中国的第四十八研究所、七星华创公司。(2)板式PECVD
作为热场材料发展缓慢,国内许多公司已与单晶硅生产厂家合作,生产性能优良的单晶硅拉制炉用C/C热场材料。预计,C/C热场材料将成为以后单晶硅拉制炉用的主要热场材料。
2.生产单晶硅的C/C热场
新材料有限公司与中南大学合作研究大直径(152cm) C/C整体加热器和保温筒。
2.5 其它部件
C/C复合材料还可以用来制造热反射屏(筒)、上/下保温盖、防漏盘、螺栓、螺帽等配件,使热场
的应对方案您认为是否已经见效?
天合光能:美国的AD&CVD双反分2012年及2014年,或者说case I and Case II,针对不同产品范围的中国光伏产品的对美出口。目前公司选择适用
。第四季度组件出货量1098.8兆瓦,创下历史新高。
昨天,天合光能投资者关系团队在雪球投资者平台上回答了网友的问题,以下是内容整理:
网友:美国商务部的双反裁定对公司的影响有多大?公司目前