化学汽相沉积

钝化替代品需要拥有和SiO2相同的特性，这是在未来工业生产晶体硅高效太阳能电池所必须的。另一种主要研究的替代品是氮化硅（SiNx），一般用化学汽相淀积（PECVD）法在约400℃时生成，而且在P型硅上

35%,为了减少表面反射,提高电池的转换效率,需要沉积一层氮化硅减反射膜。现在工业生产中常采用PECVD设备制备减反射膜。PECVD即等离子增强型化学气相沉积。它的技术原理是利用低温等离子体作能量源

空调制冷剂替代技术、二氧化碳热泵技术；推广能效等级为一级和二级的节能家用电器、办公和商用设备。高效照明产品。加快半导体照明（LED、OLED）研发，重点是金属有机源化学气相沉积设备（MOCVD）、高纯金

机，硅片自动分选机等关键光伏生产设备。支持多槽制绒清洗设备、全自动平板式等离子体增强化学汽相沉积（PECVD）、激光刻蚀机、干法刻蚀机、离子注入机、全自动印刷机、快速烧结炉等晶硅太阳能光伏电池片生产线设备和PECVD等薄膜太阳能光伏电池生产设备。促进光伏生产装备的低能耗、高效率、自动化和生产工艺一体化。

、低能耗、全自动单晶炉，吨级多晶硅铸锭炉，大尺寸、超薄硅片多线切割机，硅片自动分选机等关键生产设备。支持多槽制绒清洗设备、全自动平板式等离子体增强化学汽相沉积（PECVD）、激光刻蚀机、干法刻蚀机

纳米线和其它纳米材料制造中的应用之外，公司将继续寻求化学汽相沉积（CVD）解决方案的新应用。凭借公司的应用实验室，CVD Equipment将继续完善并拓展其解决方案所能应用的多个领域。航空、医疗

采用改良的西门子法工艺生产多晶硅。西门子法是被现有多晶硅生产商和许多行业新进入者广泛接纳和公认的技术。西门子工艺采用三氯氢硅最初原料，并通过化学气相沉积（ＣＶＤ）将其转化为多晶硅。江苏中能一方面采用了冷

。买一座十二寸半导体厂动辄30亿美元，设一座8.5代线的面板厂动辄千亿元新台币，买一座太阳能厂或进口LED的MOCVD（有机金属化学汽相沉积）机台，都可为台湾创造民间投资成长，贡献GDP产值。如今两兆产业转眼成空，台湾未来是不是要继续走这条路？值得政府当局三思。