理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“理想晶延”)近日披露的辅导信息显示，公司将赴科创板上市。
理想晶延成立于2013年，其是一家以CVD(化学气相沉积)技术为核心，覆盖半导体及泛半导体领域的高端设备供应商，主要从事太阳能光伏电池、光电子、集成电路制程、封测领域的关键设备及相关辅助设备研发、制造和销售。
目前，理想晶延已经推出了原子层沉积(ALD)设备、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、铜铟镓硒(CIGS)蒸镀等太阳能电池生产中关键工艺设备及相关辅助设备、应用于光电子领域的金属有机物化学气相沉积 (MOCVD)设备等。
公开资料显示，原子层沉积ALD属于化学气相沉积的一种，其具备成膜均匀性好、薄膜密度高、台阶覆盖性好、低温沉积等优点。2014年起，理想晶延开始布局高效光伏背钝化设备开发，采用国际先进的ALD(原子层沉积)技术，自主研发了氧化铝背钝化ALD设备。
《科创板日报》记者了解到，增加背钝化层，可以降低背表面符合，提高背内面反射率，而常用的介质钝化材料除了氧化铝外，还包括氮化硅、氧化硅、氮氧化硅，其中氧化铝薄膜生长及工艺率先取得突破。
据了解，至2016年ALD市场份额不足10%，但从2018年开始至今新增的PERC(背钝化高效太阳能电池)产能中的ALD工艺路线占比已超过60%。
公司官网显示，截至2019年1月，理想晶延已累计出货ALD设备100台(合计产能超过15GW)。
另外，理想晶延产品之一MOCVD设备面临着与国内MOCVD设备龙头——中微公司的竞争，后者拳头产品Prismo A7打破国际垄断，已大批量进入主流厂商LED产线，逐步实现进口替代。
除光伏领域外，2019年底，“理想晶延”通过收购了一家位于新加坡的高端半导体智能装备公司，开始布局半导体智能装备领域。
而在股权结构方面，截至上述辅导信息披露日，理想晶延股东共计 20 名，其中正泰集团股份有限公司(以下简称“正泰集团”) 直接持有公司 1665万股股份，占公司总股本的 29.891%;通过温州辉泰、上海联晶间接控制公司 237.35万股股份，占公司总股本的 11.870%。因此，正泰集团合计控制理想晶延41.761%股份，系公司的控股股东。
南存辉通过正泰集团、温州辉泰及上海联晶间接控制理想晶延合计41.761%的股份，系理想晶延实际控制人。值得注意的是，正泰集团同时也是上市公司正泰股份的大股东，南存辉系正泰股份的实际控制人，这也意味着，若理想晶延最终登陆科创板，南存辉将迎来其作为实控人的第二家上市公司。
另外，容煜半导体技术(上海)有限公司持有理想晶延17.561%的股份，为公司第二大股东。
