RENA Intex前清洗工序的目的
去除硅片表面的机械损伤层（来自硅棒切割的物理损伤）
清除表面油污（利用HF）和金属杂质（利用HCl）
形成起伏不平的绒面，增加对太阳光的吸收，增加PN结面积，提高短路电流（Isc），最终提高电池光电转换效率
设备构造
前清洗工艺步骤： 制绒→碱洗 →酸洗→吹干
RENA Intex前清洗设备的主体分为以下八个槽，此外还有滚轮、排风系统、自动及手动补液系统、循环系统和温度控制系统等。
Etch bath：刻蚀槽，用于制绒。 所用溶液为HF+HNO3 ，作用：
1) 去除硅片表面的机械损伤层；
2) 形成无规则绒面。
Alkaline Rinse：碱洗槽 。 所用溶液为KOH，作用：
1) 对形成的多孔硅表面进行清洗；
2) 中和前道刻蚀后残留在硅片表面的酸液。
Acidic Rinse：酸洗槽 。 所用溶液为HCl+HF，作用：
1) 中和前道碱洗后残留在硅片表面的碱液；
2) HF可去除硅片表面氧化层（SiO2），形成疏水表面，便于吹干；
3) HCl中的Cl-有携带金属离子的能力，可以用于去除硅片表面金属离子。
前清洗工序工艺要求
片子表面7S控制
不容许用手摸片子的表片，要勤换手套，避免扩散后出现脏片
称重
1) 每批片子的腐蚀深度都要检测，不允许编造数据，搞混批次等。
2) 要求每批测量1-2片。
3) 放测量片时，把握均衡原则。如第一批放在1.3.5.7道，下一批则放在2.4.6.8道，便于检测设备稳定性以及溶液的均匀性。
刻蚀槽液面的注意事项：
正常情况下液面均处于黄绿色，如果一旦在生产过程中颜色改变，立即通知工艺人员。
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