Vistec的EBPG5000pES 电子束光刻系统将进一步增强武汉光电国家实验室(WNLO)在光子学和光电领域的研发实力.”EBPG5000pES系统使我们能够应对所有现今研发中精细光刻的需求.我们确信无论在应用方面还是技术服务方面,都能得到Vistec这一战略合作伙伴的支持.”武汉光电国家实验室,光电子微纳制造工艺平台(OMFC)主任夏金松教授说道.
Vistec EBPG5000pES 系统高度可靠,设计架构经过实际证明是顶级的电子束光刻工具.系统拥有灵活的光电透镜系统,高亮度的热场发射电子束源,可以稳定的工作在50KeV和100KeV的加速电压,提供了小到2.2nm的束斑尺寸,因此,保障了最小分辨率可以稳定重复的达到小于8nm的结构.同时,系统采用了易用的交互图形化操作界面(GUI),十分简单容易使用在多用途,多用户的学校和科研环境下.
“我们非常高兴和武汉华中科技大学光电国家实验室(WNLO)共同达到合作过程中这一里程碑的时刻,确信Vistec可以帮助华中科技大学光电国家实验室实现更多的成功”,Vistec电子束光刻公司执行总裁Erwin Mueller先生说道.”武汉光电国家实验室的电子束光刻系统是第一台在中国境内安装运行的EBPG5000pES系统,我们相信今后Vistec的业务在中国范围内会有越来越多的稳定增长.”
媒体信息：
武汉光电国家实验室
武汉光电国家实验室(WNLO)是科技部于2003年11月批准筹建的五个国家实验室之一。于2006年11月批准正式建设.由教育部、湖北省和武汉市共建，其依托单位是华中科技大学，另有三个组建单位：武汉邮电科学研究院、中国科学院武汉物理与数学研究所.更多详细信息请查阅网站 http://www.wnlo.cn/
华中科技大学是国家教育部直属的全国重点大学，由原华中理工大学、同济医科大学、武汉城市建设学院于2000年5月26日合并成立，是首批列入国家“211工程”重点建设和国家“985工程”建设高校之一。
按照“应用领先、基础突破、协调发展”的科技发展方略，构建起了覆盖基础研究层、高新技术研究层、技术开发层三个层次的科技创新体系。建设有武汉光电国家实验室、脉冲强磁场实验装置等国家重大科技基础设施，还拥有5个国家重点实验室、1个国防重点实验室、6个国家工程（技术）研究中心、1个国家工程实验室及一批省部级研究基地。
http://english.hust.edu.cn/about.html
Vistec电子束光刻集团
Vistec电子束光刻集团是一家生产制造和供应电子束光刻系统的国际公司.应用于包括纳米科技,生物纳米科技,微电子,光电子研发到工业用掩膜板制造和电子束硅片直写等领域.Vistec电子束光刻集团包括Vistec光刻公司(Vistec Lithography)和Vistec电子束公司(Vistec Electron Beam).
Vistec光刻公司
Vistec光刻公司研发,生产和销售高斯束技术的电子束光刻系统.Vistec的高斯束电子束光刻系统在全世界范围内广泛的服务于各大研究所,实验室和大学.
Vistec电子束公司
Vistec电子束公司提供基于变形束技术的电子束光刻机,世界领先的半导体公司和许多研究所都在使用.Vistec的创新电子束系统适用于芯片制造,集成光器件,同时也包括科学和商用产品的开发应用.
责任编辑：solar_robot
