据了解，与浸渍工艺相比，第二代VITRUM技术可实现同质、可靠、可重现的蚀刻。同时该技术与浸渍池相比还具有其他优势，如较高的蚀刻长度和浓度、高达每分钟5米的较快的处理速度和最小的结转等。
第二代VITRUM技术可在单步操作中同时对薄膜太阳能电池的背面和边缘进行清洁。除了可对工艺进行自动控制外，新款的单步蚀刻工具可保护活跃层不受工艺烟罩的损害，并通过刷子和化学原料等进行蚀刻。第二代VITRUM技术据称是目前市场上唯一的一款设备可在单步操作中同时对薄膜太阳能电池的背面和边缘进行清洁，而不对活跃层造成任何伤害。该技术可用在烘箱工艺之后的清洁流程中，以及对被表面和边缘的多余CdTe和CdS镀膜进行蚀刻。第二代VITRUM技术可为多种不同技术提供平台，在CdTe加工过程中，第二代VITRUM技术可实现六步工艺，包括玻璃清洗、背板CdTe清洁，使用滚轴进行的CdCl2沉积和玻璃清洗的除盐。当生产非晶硅和多晶硅或者CIS/CIGS电池时，VITRUM技术可分别用于玻璃清洗，以及透明导电氧化物的蚀刻、KCN的蚀刻或NH3的处理等。此外，该技术还可在大小高达2200的NP、DAE和EDTA的基底上进行蚀刻工艺。该技术可应用于薄膜太阳能组件的湿法化学工艺中。
第二代VITRUM技术的新式设计改善了在大型安装系统中的维护工作。管道设计与所有其他的液体电路相类似。同时，该技术还具有较高的可循环率，并极易与现有生产线相集成。
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