1常规和非常规半导体电极的光电化学太阳电池
用于光电化学太阳电池中半导体电极研究的材料包括有:Si、Ⅱ-Ⅵ族化合物CdX(X=S、Se、Te)、Ⅲ-Ⅴ族化合物(GaAs、InP)、二硫族层状化合物(MoS2、FeS2)、三元化合物(CuInSe2、CuInS2、AgInSe2)及氧化物半导体(TiO2、ZnO、Fe2O3)等,其中窄禁带半导体(Eg≤2.0eV)可获得较高的光电转换效率,但存在光腐蚀现象,宽禁带半导体(Eg≥3.0eV)有良好的稳定性,但对太阳能的吸收率低。因此大量的研究工作都是围绕提高光电效率和稳定性进行的。
同固体太阳电池一样,Si在光电化学电池研究中也是一个重点对象。Si是较理想的光电极材料,但在电解质水溶液中容易光腐蚀,其表面生成SiOX绝缘层使光电流急骤衰减。因此,克服光腐蚀是Si光电化学电池研究的主要内容。在n-Si电极表面化学沉积Au,形成Au与Si表面渗合层,可减少光腐蚀;用电沉积法将聚丁基紫精修饰于p-Si电极表面,也使光腐蚀明显下降。n型和P型外延硅(n/n+-Si、p/n+-Si)电极由于电荷分离效率高,其光电流较大。通过表面修饰几个纳米厚的金属层(Pt、Ni、Au、Cu、Co),进一步提高光稳定性,可以获得光电性能优越的光电化学电池。其中以真空蒸镀或溅射方法在外延硅表面修饰Pt或Ni以及Pt/Ni(Ni/Pt)复合层的效果较好,如Pt/n/n+-Si和Pt/p/n+-Si电极在KBr-Br2电解液中光电转换效率分别达到12.2%和13.6%,用MOCVD方法在p/p+-Si电极表面覆盖TiO2薄膜形成异质结结构,不仅提高了光稳定性能,而且在一定电压下光电流增大了10倍。用同样的方法覆盖α-Fe2O3,和ZnO薄膜也得到了类似的结果。用LB膜技术在n-Si电极表面修饰排列有序的Pt团簇(平均直径为4nm),其开路电压达到了0.685V。金属和金属氧化膜的表面修饰加速了光生空穴的界面转移,从而有效抑制了电极自身光腐蚀,同时也提高了光电性能。
Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体CdX(X=S、Se、Te)是光电化学研究较为普遍的光电极材料,其主要优点是可用多种方法如粉末压片法、涂敷法、真空沉积、化学气相沉积、电沉积、化学溶液沉积以及喷涂热解法等制备,得到转换效率较高的多晶或薄膜光电极,这些方法价格低廉、简单易行,多数还可适用于大面积制备。在CdX(X=S、Se、Te)化合物中CdS的能隙较大(Eg=2.4eV),只能吸收小于517nm波长的太阳光,曾用压片烧结、涂敷、喷涂热分解制备各种CdS电极并用RuS2进行光谱敏化,将吸收截止波长由517nm延长至890nm,但转换效率都很低,因此研究的重点是CdSe和CdTe电极。用涂敷法在各种金属基底(钛、铬、钼、铂)、非金属基底(二氧化锡、石墨、破碳)上都可成功制备性能稳定、重现性好的CdSe薄膜电极。在金属基底CdSe薄膜结合力强,界面电阻小,经过电极表面的化学刻蚀和光化学刻蚀获得了7%的能量转换效率。进一步控制热处理气氛中的含氧量使转换效率提高至8.3%。制备中用Te替代部份Se形成CdSe和CdSexTe1-x薄膜电极,其光谱响应范围与X值大小有关,当调X=0.63时能量转换效率达到12.3%。CdTe具有吸收太阳光能的最佳能隙(Eg=1.4eV),其单晶电极在多硫溶液中达到15.6%的光电转换效率,但用电沉积法制备多晶薄膜电极却只获得3.6%的转换效率。比较CdX(X=S、Se、Te)光电极性能不难看出,CdSe和CdSexTe1-x薄膜的光电性能和稳定性能优于CdS和CdTe电极,是光电化学研究中有发展前途的光电极材料。在CdS和CdTe薄膜的研究中证明了表面修饰也是改善光电性能的有效措施,研究Au、Pt、Ru和Pd等贵金属修饰CdS和CdTe电极,发现贵金属在电极表面的构型不同会产生不同效果,大量的Pt岛覆盖电极表面降低了电极界面光电化学反应的极化,增大了反应的交换电流,是电极界面光电催化的最佳构型。Pd的修饰形成了金属致密层,结果使光电性能下降,产生与Pt修饰相反的效果。用LB膜技术实现分子取向、排列结构和浓度可控的条件下研究具有不同氧化还原电位和传递电荷性质的二茂铁衍生物修饰CdSe,薄膜电极,将电极表面的微观分子设计与宏观电极过程联系起来,为修饰分子的优化提供大量信息,使半导体电极表面修饰技术有很大的提高和发展。
对Ⅲ~Ⅴ族化合物半导体主要研究GaAs和InP单晶电极,它们具有吸收太阳光能的最佳带隙,可以构成高效的光电化学电池。n-GaAs电极在多硒溶液中有较好的稳定性,经H2SO4-H2O2混合溶液的反复刻蚀,再吸附Ru3+离子后有效降低表面复合,使光电转换效率大大提高,接近于20%。n-InP电极的晶面取向和掺杂浓度对光电性能有很大影响,掺杂浓度低(1016cm-3)的光电流、光电压优于掺杂浓度高(1018cm-3)的电极;在Fe2+/Fe3+酸性溶液中,性能稳定,转换效率达到18%,p-InP电极在V2+/V3+溶液中表面经Ag修饰和电镀Cu改善背面接触后效率达到18.8%。
过渡金属二硫族层状化合物具有特殊的电子结构,其过渡金属存在分离的d轨道,受激电子在d-d轨道间跃迁,最大跃迁能为1.1eV-1.8eV,而且不影响化学键,因此其光稳定性好。研究天然晶体MoS2电极发现其光电性能存在各向异性的特征,电极的表面性质是决定光电性能的关键因素,通过离子特性吸附和表面活性剂处理都能明显提高光电流和光电压,FeS2电极则可通过界面配位化学途径来改善其光电性能。
在三元半导体化合物中研究了CuInS2和CuInSe2及其固溶体的烧结多晶电极,通过固溶体的组成变化来改变电极的能隙及电子亲合势,得到CuInS2(1.51eV)、CuInS1.5Se0.5(1.44eV)、CuInSSe(1.24eV)、CuInS0.5Se1.5(1.13eV)和CuInSe2(1.04eV)不同组成的三元化合物多晶电极,在多硫溶液中以CuInS2,电极的光电流、光电压最大,转换效率达到1.8%,而且间断运行一年光电性能未见衰减。AgInSe2电极在多碘溶液中的光电化学性能优于CuInSe2。
氧化物半导体一般具有很好的光稳定性能,但存在的问题是能量转换效率较低,因此研究的重点是通过光谱敏化、离子掺杂和光电催化作用来改善其光电性能。最有代表性的是TiO2,热氧化制备的多晶薄膜电极在通氮无氧的K4Fe(CN)6和HClO4混合溶液中浸渍,由于K4Fe(CN)6与TiO2表面中的Ti4+形成电荷转移配合物,使TiO2的吸收光谱由400nm扩展到600nm以上。另外,还研究了铱和钴对TiO2电极光电化学反应的催化作用,铱以大量微孔的透光层形式,钴则以高度分散的微岛固定在TiO2电极表面,都能快速捕获光生空穴催化界面光反应氧化,将钴微粒载在多孔铱层产生了更大的光电流,说明铱和钴的联合作用比单一催化剂有更好效果,ZnO电极只能吸收紫外光用染料罗丹明日B进行光谱敏化,明显增加了可见光波长区(400nm-700nm)的光电流。α-Fe2O3薄膜电极用二茂铁化学真空沉积(VCD法)在高纯Ti层上制备,其工作光谱扩展至670nm,比α-Fe2O3能隙相对应的550nm红移了120nm,这是归因于在热处理过程中Ti由基底扩散而导致的掺杂效应。
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