PECVD

S125-D165（对角线165mm）电池制作组件（板型：49=36片串联），在板式PECVD时，调节氮化硅膜后分布为70-75、80-85、90-95（nm），三组电池各制作5块组件，组件对其他辅材相同。组件的理论

膜厚电池的封装对比选取三组不同氮化硅膜厚、效率17.25%档的单晶S125-D165（对角线165mm）电池制作组件（板型：49=36片串联），在板式PECVD时，调节氮化硅膜厚分别为70-75

由奥宝科技和LT Solar共同投资的OLT Solar有限责任公司5月16日在中国国际太阳能光伏展会（SNEC）的E3-828展位推介一款用于生产晶体硅太阳能电池的PECVD新系统
。 Aurora PECVD共有三个型号，是一款用于晶硅光伏电池生产的氮化硅沉积系统。借助OLT太阳能的核心科技，加强化线性中空阴极（ELH）喷头，该设备能够以最快的沉淀速度实现最优质的SiNx(ARC)涂层

S125-D165（对角线165mm）电池制作组件（板型：49=36片串联），在板式PECVD时，调节氮化硅膜厚分别为70-75、80-85、90-95（nm），三组电池各制作5块组件，组件的其他辅材相同。组件的理论

？我给大家举一些例子，比如说我们会有一个低压的，我们看到有这样的一个分布，低压的分布可以达到每小时五千个晶元的生产量，这是一个五层的机器，另外我们还有PECVD的机械，它的部署可以减少CEPX，可以
%，很好，我们现在看技术的看法，最关键的是什么呢？就是效率，效能，我们所派发的，在过去就是新的技术，我们的技术是把前面PECVD和后面的加起来，在前端有更好的效能，大家看三维的展示图，我们看以前的印刷线

生产过程当中的一些辅助原料，银浆、EVA、切割液等等，还包括铸锭炉、PECVD、自动层，压机等。我们看到2010年进口是290亿，出口279亿。2011年进口是279亿，出口是316亿，这里面可能就是说

用于生产晶体硅太阳能电池的PECVD新系统。Aurora PECVD共有三个型号，是一款用于晶硅光伏电池生产的氮化硅沉积系统。借助OLT太阳能的核心科技，加强化线性中空阴极（ELH）喷头，该设备能够以
最快的沉淀速度实现最优质的SiNx（ARC）涂层沉积。通过引进多向无托盘基板处理流程，Aurora PECVD从操作环境中移除了载板并消除了由多个载板所导致的流程多变性，从而改进了工艺的一致性与重复性

为电池的一个电极。太阳能电池就是以TCO薄膜为衬底生长的，用等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）生长的太阳能电池层也称为有效层。有效层包括两个pin串联的双结结构。与TCO薄膜连接的第一结称为顶层
叠层组件，这种结构的非晶硅薄膜太阳能电池也被称为层叠电池，如图2所示。非晶硅薄膜太阳能电池生产的主要工艺流程：生产非晶硅薄膜太阳能电池的主要设备和工艺流程如图3所示。其中pin膜的沉积是利用PECVD

。展会上, Tempress系统将推出全新管式PECVD产品。Amtech总裁Fokko Pentinga评论说：Amtech在科研方面的投资为市场产生高等相关技术。另外，这些新技术的引入为我们目前强化

层上沉积SiN为A只乙后面用RF-PECVD掺硼的c一Si薄膜作为背场，用SiN薄膜作为后表面的钝化层，Al层通过SiN上的孔与cSi薄膜接触。5cmX5cm电池在AM1．5条件下效率达到21.4
太阳电池表面采用pECVD法镀上一层氮化硅减反射膜，由于硅烷分解时产生氢离子，对多晶硅可产生氢钝化的效果。 　　在高效太阳电池上常采用表面氧钝化的技术来提高太阳电池的效率，近年来在光伏级的晶体硅