PECVD

PECVD,索比光伏网为您提供PECVD相关内容,让您快速了解PECVD最新资讯信息。关于PECVD更多相关信息,可关注索比光伏网。

设备订单:INDEOtec获法国研发中心PECVD订单来源:PV-Tech 发布时间:2015-10-08 11:05:25

光伏设备专家INDEOtec SA日前与法国光伏研究所(IPVF)研发中心签署OCTOPUS II PECVD沉积设备订单。      INDEOtec表示,该设备可对多种材料进行单线程或多线程
沉积工艺,并将用来开发新一代高效光伏太阳能电池。      INDEOtec公司首席执行官Omid Shojaei博士表示:我们很高兴能够在PECVD沉积技术领域的激烈竞争中获得IPVF的青睐

EnergyTrend:PERC太阳能电池旋风持续燃烧来源:EnergyTrend 发布时间:2015-09-23 23:59:59

供不应求,今年PREC全球产能不至于剧烈提升。展望明年,除了主流机台仍旧订单满载之外,无法顺利购得机台的厂商为了不失去竞争力也会再做更多尝试,届时除了用PECVD镀氧化铝之外,也会有厂商选用ALD技术
,或是不愿冒机台风险的厂商可能会重新评估采用长兴材料集团的方式:以现有设备搭配独特氧化铝浆料的方式呈现PERC的效果,这都将让PECVD不再独霸一方。PERC技术的单多晶之争除了镀膜机台的选择之外

PERC高效电池旋风持续燃烧来源:EnergyTrend 发布时间:2015-09-21 10:24:38

,届时除了用PECVD镀氧化铝之外,也会有厂商选用ALD技术,或是不愿冒机台风险的厂商可能会重新评估采用长兴材料集团的方式:以现有设备搭配独特氧化铝浆料的方式呈现PERC的效果,这都将让PECVD不再

EnergyTrend:PERC旋风持续燃烧来源: 发布时间:2015-09-21 09:56:59

机台供不应求,今年PREC全球产能不至于剧烈提升。展望明年,除了主流机台仍旧订单满载之外,无法顺利购得机台的厂商为了不失去竞争力也会再做更多尝试,届时除了用PECVD镀氧化铝之外,也会有厂商选用ALD
技术,或是不愿冒机台风险的厂商可能会重新评估采用长兴材料集团的方式:以现有设备搭配独特氧化铝浆料的方式呈现PERC的效果,这都将让PECVD不再独霸一方。PERC技术的单多晶之争除了镀膜机台的选择之外

PERC高效电池的燃烧旋风来源:EnergyTrend 发布时间:2015-09-21 09:22:37

MeyerBurger机台供不应求,今年PREC全球产能不至于剧烈提升。展望明年,除了主流机台仍旧订单满载之外,无法顺利购得机台的厂商为了不失去竞争力也会再做更多尝试,届时除了用PECVD镀氧化铝之外,也会有厂商选用
ALD技术,或是不愿冒机台风险的厂商可能会重新评估采用长兴材料集团的方式:以现有设备搭配独特氧化铝浆料的方式呈现PERC的效果,这都将让PECVD不再独霸一方。PERC技术的单多晶之争除了镀膜机台的选择

深圳丰盛装备股份有限公司申报OFweek Solar PV Awards 2015来源: 发布时间:2015-09-15 16:48:59

研发的队伍,且从未间断过相关设备的技术跟踪及创新。拥有国内超过一半以上扩散炉、PECVD等设备设计生产及安装调试的丰富经验。本届OFweek Solar PV Awards 2015活动9月7日截止

【综述】太阳能电池介绍来源:价值中国 发布时间:2015-09-09 12:01:16

是光伏企业技术实力的体现!如何减少电磁波对电池表面PN结辐射损伤以及损伤的有效修复是该工艺的核心技术,处理不好往往导致电池效率一致性较差。装备方面有连续式间接HF-PECVD、管式直接LF-PECVD

太阳能电池介绍来源:价值中国 发布时间:2015-09-07 16:06:49

光伏企业技术实力的体现!如何减少电磁波对电池表面PN结辐射损伤以及损伤的有效修复是该工艺的核心技术,处理不好往往导致电池效率一致性较差。装备方面有连续式间接HF-PECVD、管式直接LF-PECVD

天合光能:智能车间巩固光伏行业领导地位来源:中国电子报-电子信息产业网 发布时间:2015-08-25 09:43:59

车间自动化、智能化水平,降低人力成本,使公司在激烈的行业竞争中占据主导权。 据介绍,天合光能智能车间项目总投资55118万元,计划在电池车间导入前后清洗自动上下料、PECVD自动上下料、扩散自动插片

PECVD:晶硅太阳能电池效率提升技术来源:光伏标准及技术 发布时间:2015-07-30 10:50:47

,SiNx膜被制备在硅的表面起到两个最用,其一是减少表面对可见光的反射;其二,表面钝化作用。PECVD技术的分类用来制备SiNx膜的方法有很多种,包括:化学气相沉积法(CVD法)、等离子增强化学气相沉积
PECVD法)、低压化学气相沉积法(LPCVD法)。在目前产业上常用的是PECVD法。PECVD法按沉积腔室等离子源与样品的关系上可以分成两种类型:直接法:样品直接接触等离子体,样品或样品的支撑体就是