PECVD
2-2.5亿元左右，而HJT投资额在4-4.5亿元左右，但单GW PERC改造为TOPCon金额约6000-8000万元左右，主要新增设备为非晶硅沉积的LPCVD/PECVD设备以及镀膜设备，可实现
硅片尺寸并不敏感，板式的PECVD和PVD决定了HJT电池在尺寸上的变化不会导致设备的频繁淘汰;而预切半片技术更能很好的保证210HJT电池的高效和低机械应力。 b)HJT电池对于薄片化极为友好。当前
作为技术支持机构，为评选体系及模型提供专业的参考和见证，最终评选出最具典范和标杆力量的企业代表。
获奖企业介绍：
上海理想万里晖薄膜设备有限公司研发及制造太阳能、泛半导体和半导体高端PECVD装备
，系列光伏和AMOLED显示等产品。其中高端PECVD系列产品多次打破国外垄断、填补国内空白，是中国高端PECVD装备的首选供应商。
上改变或者增加的工艺，可以最大化的利用现有PERC产线和工艺经验积累，增加的设备包括LVCVD/PECVD、离子注入机、退火炉、刻蚀设备等，不同的技术路线所对应的设
备有所不同，前文已经介绍过，此处
、非晶硅薄膜沉积设备(PECVD或者Cat-CVD)、TCO膜沉积(PVD或者CVD)、丝印与烧结设备等，目前对应设备投入约4.5亿/GW。
值得注意的是，虽然某些工序/设备名称一样，但是实际区别较大，例如
产线上改变或者增加的工艺，可以最大化的利用现有PERC产线和工艺经验积累，增加的设备包括LVCVD/PECVD、离子注入机、退火炉、刻蚀设备等，不同的技术路线所对应的设
备有所不同，前文已经介绍过
、非晶硅薄膜沉积设备(PECVD或者Cat-CVD)、TCO膜沉积(PVD或者CVD)、丝印与烧结设备等，目前对应设备投入约4.5亿/GW。
值得注意的是，虽然某些工序/设备名称一样，但是实际区别较大
关于18X的讨论开始增多硅片、电池片企业经过技术探索发现，单晶拉棒炉、管式PECVD等设备经过改造后最大可以满足18X的尺寸。基于原有设备，最优的尺寸规格并非是166，而是182。 于是，最终在
。
HIT生产线核心设备有望近期实现国产化：HIT的4大工艺步骤制绒清洗、非晶硅薄膜沉积、TCO制备、电极制备，对应的设备分别为清洗制绒设备、CVD设备(PECVD为主、HWCVD较少)、PVD/RPD设备
、丝网印刷设备。国产大通量低成本PECVD的突破将成为HIT产业化的发令枪。
捷佳伟创是太阳能电池片龙头，主要产品包括PECVD设备、扩散炉、制绒设备、刻蚀设备、清洗设备、自动化配套设备等。凭借
铸锭炉主要用于生产太阳能光伏电池所需的单晶硅棒，多晶硅锭。 捷佳伟创：国内领先的晶体硅太阳能电池生产设备供应商，主要产品是管式PECVD，罐式高温扩散炉，单多晶制绒设备。 北方华创：泛半导体领域的刻蚀机，PVD,CVD扩散炉等，广泛应用于光伏，半导体
高端装备PECVD中国造，在高端太阳能HIT领域开发出一代、二代等系列产品并推向市场。今天年产能250MW新一代设备又将启运交付客户，感谢中央上海临港各级政府、我们的广大客户、投资方、供应商以及公司
为新一代光伏主流技术，非常认可万里晖的产品和技术团队，同时很高兴看到万里晖PECVD产品实现国产替代。
安徽华晟新能源科技有限公司总经理徐晓华表示，很高兴成为
(PECVD)最为关键，成本占比也最高(约50%左右)。目前，可以实现250MW以上规模化高转换效率稳定量产的PECVD设备生产商包括：梅耶博格(已不对外提供)、应用材料、迈为股份，而钧石、理想万里晖
