世界领先水平。该研究所采用光刻照相技术将电池表面织构化,制成倒金字塔结构。并在表面把一13nm。厚的氧化物钝化层与两层减反射涂层相结合.通过改进了的电镀过程增加栅极的宽度和高度的比率:通过以上制得的电池
半导体材料上形成的,窄禁带半导体材料采用过渡金属Ru以及Os等的有机化合物敏化染料,大能隙半导体材料为纳米多晶TiO2并制成电极,此外NPC电池还选用适当的氧化一还原电解质。纳米晶TiO2工作原理:染料
煤炭质量,限制高硫份高灰份煤炭的开采与使用,提高煤炭洗选比例,推进配煤中心建设等。我们不仅要关注煤炭开发利用过程中的烟尘、二氧化硫、氮氧化物的污染,还要关注煤炭中重金属污染,包括选煤、洗煤、煤矸石、燃煤
产生烟气和煤渣中的重金属污染;关注煤炭矿区环境保护和生态建设,采煤沉陷区和影响区的生态综合治理、土地复垦等工作。此外,除在煤炭利用的全生命周期做好污染控制和污染处理外,还应积极推广整体煤气化联合循环
,各程序和环节存在着不同的混乱现象。徐所长说,值得欣慰的是,日前,中国建筑金属结构协会光电建筑应用委员会已经牵头组织国内50多家涉及技术、构件、材料等环节的企事业单位和专家编制了《光电建筑导则》。该《导
吨/年、氮氧化物减排量3.8吨/年。该项目的实施成果可直接服务于既有建筑节能与美化改造工作,对城市实现节能减排、美化城市形象具有重要意义。该项目的实施,可以为未来几年大规模的分布式光伏发电工程的建设
催化剂,通过光还原沉积和光氧化沉积发现BiVO4不同暴露晶面具有不同的氧化还原性质,实验中观察到贵金属的光还原沉积能够选择性地发生在{010}晶面上,而金属氧化物的光氧化沉积选择性地发生在{110
问题进行了不懈努力:通过构筑CdS/MoS2异质结取得比传统贵金属Pt负载的Pt/CdS光催化剂更好的分解水制氢活性(J. Am. Chem. Soc., 2008, 130, 7176-7177
国内面板市场30%的需求。更为重要的是,借助液晶面板行业的回暖,国内的几条高世代线刚刚投产就实现经营性盈利,而且在向低温多晶硅、金属氧化物等最新液晶技术的升级中也迈出了关键一步,至少在技术上国产面板
行业已经与对手差距越来越小,同时随着京东方建设的国内首条AM-OLED面板生产线即将投产,在OLED领域国内也赶上了国外同行的步伐。此外,由于液晶面板在金属氧化物技术上突破,其分辨率等参数要明显好于
反射和捕获光线的非凡能力。新电池的顶层(即窗口层)使用极精细金属网,金属厚度为30纳米,网孔直径为175纳米,间隔为25纳米。该金属网取代了以往由铟锡氧化物(ITO)材料制成的窗口层。该网格状窗口层与
光电子设备的操作至关重要,广泛用于高容量应用设备中,比如显示器、太阳能电池、智能传呼以及 LED 。诸如铟锡氧化物(ITO)等透明导电金属氧化物当前用于这一目的。然而,出于成本、产量以及性能方面的目的
主流制造方法是在约180m厚的晶体Si硅片上加工太阳能电池,在正面有Ag金属栅,背面完全覆盖Al-BSF。由于金属化(浆料、丝网)方面的进步,工业生产中似乎能达到18.5-19%的效率。下一步,我们
硅片-硅片间重复性是1.4%(1),而硅片内的不均匀性低至0.6%(1)。B注入避免了与B扩散和去除B-氧化物有关的难点。与硬掩膜结合也能使工艺步骤数显著减少,实现PERL和IBC电池概念中的局部掺杂区
透明的(2.3%的光可被吸收;97.7%的光可被传输),这些都使它成为理想的候选材料,可用于光伏领域,超薄透明石墨烯膜就可替代金属氧化物电极。因此,它可能是一种很前途的替代材料,可替代铟锡氧化物(ITO
的均相分布的思路,增加光催化材料的可见光吸收。据了解,掺杂阴离子难以进入金属氧化物体相本质上是由M-O键的高键能以及掺杂离子与替代晶格离子间的电荷差异造成的。研究人员通过先期发展的掺杂剂与前躯体
、一个是砷化镓晶片技术、一个是高效的转换率。他同时介绍到,首先在一个临时的模板晶片上使用金属有机气相沉积工艺生产薄膜,然后将薄膜分离,并再次使用这个模板晶片,由此得到了极薄并可弯曲的薄膜,它可以做成任何