一所大学访问一位比较有名气的教授。当时天气很热,这位教授将我们带到一个会议室,里面安装了一个简陋的咚咚作响的窗式空调,一下子感到很凉爽。这位教授的实验室有好几台比较旧的镀膜设备,很希望我们学生能去他那儿
光伏组件厂- Solar Power (SPI),计划采用中国生产的太阳电池、相关材料及生产设备,加工成组件运到美国建电站,主要市场是户用住宅屋顶电站(图9-1, 图9-2)。我推荐了一位专业人员和我的两位
材料特性方面广泛的技术特长之外,ASM AE还引领着PV设备技术:通过全面精确的检测,及被广泛认为是更高电源输出模组促成技术的1/2电池片的切割制造,来推动高性能太阳能电池模组。ASM AE的
,SolarWIS是达成预生产检测的全面解决方案。在太阳能电池片生产之后,ASM AE 可在将电池焊接入模组之前,对其进行精密的激光切割分离。这种刻线和破片技术通常指作1/2切割技术,已经显示能够增加现代太阳能模组的
最开始的单层膜,已经发展到现在的双层减反射膜和渐进式减反射膜。根据所用镀膜设备的不同,管式PECVD通常采用双层SiNx1/SiNx2减反射膜,板式PECVD则采用渐进式减反射膜。由于SiNx薄膜可调
(metal Wrap Through)电池,它通过激光穿孔和灌孔印刷技术将正面发射极的接触电极穿过硅片基体引导到硅片背面,通过16个电极孔收集光生电流,如图3所示,直接减少了主栅的遮光面积。在MWT电池组件的
网。
除了在印刷工艺和材料特性方面广泛的技术特长之外,ASM AE还引领着PV设备技术:通过全面精确的检测,及被广泛认为是更高电源输出模组促成技术的1/2电池片的切割制造,来推动高性能太阳能电池
硅片弯翘曲度进行面积检测,SolarWIS是达成预生产检测的全面解决方案。
在太阳能电池片生产之后,ASM AE 可在将电池焊接入模组之前,对其进行精密的激光切割分离。这种刻线和破片技术通常指作1
钝化处理,形成绒面结构,如图2B。其绒面反射率可达到4%以下。
减反射膜利用光的干涉相消原理,减小入射光的反射。从最开始的单层膜,已经发展到现在的双层减反射膜和渐进式减反射膜。根据所用镀膜设备的
,还是渐进式减反射膜,对反射率的降低并不是十分显着。
(2)减小正面电极遮光损失:新型正面电极结构例如MWT(metalWrapThrough)电池,它通过激光穿孔和灌孔印刷技术将正面发射极的接触
结构,如图2B。其绒面反射率可达到4%以下。减反射膜利用光的干涉相消原理,减小入射光的反射。从最开始的单层膜,已经发展到现在的双层减反射膜和渐进式减反射膜。根据所用镀膜设备的不同,管式PECVD通常采用
反射率的降低并不是十分显著。(2)减小正面电极遮光损失:新型正面电极结构例如MWT(metalWrapThrough)电池,它通过激光穿孔和灌孔印刷技术将正面发射极的接触电极穿过硅片基体引导到硅片背面
了这一难题,突破了这方面的效率限制。该技术既适用于砂浆切割硅片,也适用于金刚线切硅片,是降本增效的利器,将来势必成为多晶电池的标配技术。阿特斯历经3年自主研发,攻克多道技术难关,在2014年底成功量产
,开辟了湿法黑硅技术产业化的新纪元。本文主要从技术优势、成本优势、关键技术、以及产业化进程几个方面介绍湿法黑硅技术。
关键词:湿法黑硅;MCCE;金刚线切割;电池效率;CTM
1、 引言
表面反射率是提高多晶电池效率的关键。成本方面,单晶硅片受益于金刚线切割工艺的推广,成本大幅下降;而多晶硅片金刚线线切的推广受制于电池制绒工艺的匹配,具体讲,金刚线线切多晶硅片使用常规制绒工艺后,反射率
更高并有明显的线痕等外观缺陷,严重降低电池效率。阿特斯开发的湿法黑硅技术完美的解决以上问题,既能提升电池效率又能降低电池成本,是多晶电池继续进步的必由之路。制备黑硅所采用的技术主要有:①激光刻蚀法
这一难题,突破了这方面的效率限制。该技术既适用于砂浆切割硅片,也适用于金刚线切硅片,是降本增效的利器,将来势必成为多晶电池的标配技术。阿特斯历经3年自主研发,攻克多道技术难关,在2014年底成功量产
,开辟了湿法黑硅技术产业化的新纪元。本文主要从技术优势、成本优势、关键技术、以及产业化进程几个方面介绍湿法黑硅技术。关键词:湿法黑硅;MCCE;金刚线切割;电池效率;CTM1、 引言多晶电池效率的提升受制
结晶系薄膜式(以下表示为a-)两大类,而前者又分为单结晶形和多结晶形。
太阳能光伏电池通常用晶体硅或薄膜材料制造,前者由切割、铸锭或者锻造的方法获得,后者是一层薄膜附着在低价的衬背上。目前市场生产和
/P吸杂技术、选择性发射区技术、双层减反射膜技术等。许多新结构新技术的电池在此阶段相继出现,如效率达24.4%钝化发射极和背面点接触(PERL)电池。目前相当多的技术、材料和设备正在逐渐突破实验室的