应用材料

加利福尼亚州圣克拉拉，2015年7月13日 — 应用材料公司今天宣布推出下一代刻蚀设备Applied Centris™ Sym3™ 刻蚀系统。该系统设有全新的反应腔，可实现原子级精度工艺。为了克服芯片内部特征差异，Centris Sym3系统超越了现有的蚀刻技术，大幅改善了蚀刻的可控性和精准度，提供给芯片制造商制造先进内存和逻辑芯片的密集型三维结构

创新的Olympia系统确立了应用材料公司在原子层沉积技术领域的前沿地位 独特的模块化架构可生产出各类高质量ALD薄膜，并且

应用材料推出全新的物理气相沉积(PVD)系统，采用突破性硬掩模技术，可支持10纳米及更小的铜互连图形生成。

应用材料公司发布2015财年第二季度财务报告

2015年SNEC展会前夕，太阳能电池丝网印刷设备全球领导者应用材料公司发布全新金属化系统TempoTM。在积极推进降本增效的光伏行业，应用材料公司携全新丝网印刷设备为电池制造商带来高转换效率、高良率和每瓦最低成本的优秀解决方案。

晋能清洁能源科技有限公司采用应用材料公司的全新金属化系统，快速实现量产

2015年4月27日，美国加州圣克拉拉——应用材料公司（纳斯达克：AMAT）和TOKYO ELECTRON（东京证交所代：8035）今天宣布双方已经同意终止商业合并协议。两家公司都无需支付协议的终止费用给对方。

全新Tempo系统能够实现高效太阳能电池的大产量制造 支持行业最高的电池产能和良率，提供最低拥有成本解决方案中国上海，2015年4

　　 全新Tempo TM金属化系统能在显著降低成本的同时提高电池转换效率　　 晶澳太阳能有限公司在生产中使用了该系统，提高了产出

全新Tempo TM金属化系统能在显着降低成本的同时提高电池转换效率。晶澳太阳能有限公司在生产中使用了该系统，提高了产出和良率。