单晶制绒工艺

技术 黑硅技术是指，针对常规制绒C艺表面反射率高并有明显线痕的缺陷增加了一道表面制绒工艺，降低了表面反射率，从而改善硅片光吸收能力和电池效率。干法黑硅技术工艺稳定成熟，绒面结构均匀， 效率提升最高

黑硅技术是指，针对常规制绒C艺表面反射率高并有明显线痕的缺陷增加了一道表面制绒工艺，降低了表面反射率，从而改善硅片光吸收能力和电池效率。干法黑硅技术工艺稳定成熟，绒面结构均匀， 效率提升最高，但需要

发展前景至关重要。目前投入运营的黑硅技术包括制绒添加剂技术、表面预处理技术、湿法黑硅技术和干法黑硅技术，其中湿法黑硅技术性价比相对较高。 规模效应带动非硅成本下降 规模效应带来非硅成本下降。以单晶为例

。 工艺：核心工艺与PERC完全不同 异质结电池四步核心工艺为清洗制绒、非晶硅薄膜沉积、导电膜沉积、印刷电极与烧结。与PERC工艺的区别在于：1)非晶硅薄膜沉积环节，使用PECVD或RPD沉积本征

效电池技术的设备进行研发储备，其中HIT电池工艺技术超洁净HIT单晶制绒清洗设备研发、适用于HIT工艺其他设备研发逐步开展中;背钝化技术氧化铝镀膜设备研发已进入工艺调试阶段;Topcon电池工艺技术钝化设备研发

万元。 资料显示，捷佳伟创是一家国内领先的从事晶体硅太阳能电池设备研发、生产和销售的国家高新技术企业。主营产品为PECVD及扩散炉等半导体掺杂沉积工艺光伏设备、清洗、刻蚀、制绒等湿法工艺光伏设备以及

为1，411.18万元。 资料显示，捷佳伟创是一家国内领先的从事晶体硅太阳能电池设备研发、生产和销售的国家高新技术企业。主营产品为PECVD及扩散炉等半导体掺杂沉积工艺光伏设备、清洗、刻蚀、制绒等

万元。 资料显示，捷佳伟创是一家国内领先的从事晶体硅太阳能电池设备研发、生产和销售的国家高新技术企业。主营产品为PECVD及扩散炉等半导体掺杂沉积工艺光伏设备、清洗、刻蚀、制绒等湿法工艺光伏设备以及

。未来，随着新型增加转换效率技术的成熟，单晶转换效率将持续提升。 多晶则依靠黑硅提升转换效率。多晶金刚线硅片采用常规酸制绒无法实现良好的表面结构，甚至无法形成绒面，这导致金刚线硅片的反射率大幅提升，从而

优化SE技术、多主栅技术、制绒与背面抛光工艺、背钝化工艺、激光工艺、导电浆料与金属化工艺，双面PERC测试标准与方法，24%以上效率PERC电池展望，单晶与多晶PERC电池LID和LeTID机理与解决方案，TOPCon技术及应用前景，PERC产线升级钝化接触技术的工艺方案等。