光学膜

功率，可以从电池，组件，系统三个方面的光学性能及电学性能考量。这里我列举了几个方向。例如，在组件端，光学优化的方案有聚光焊带的开发，电学优化有低电阻焊接技术工艺的开发等。系统的温度系数，工作温度等都是影响实际
，高温高湿下更好地保护电池片;组件不接地，对抗PID性能更加优异等优点。而耐热冲击的组件，我们认为采用导电膜材料，能改善性能。以前由于导电膜成本高没法推广。刚才我们上午听专家报告了，导电膜的国产化已经有

方面的光学性能及电学性能考量。这里我列举了几个方向。例如，在组件端，光学优化的方案有聚光焊带的开发，电学优化有低电阻焊接技术工艺的开发等。系统的温度系数，工作温度等都是影响实际发电量的要素。下面我会
PID性能更加优异等优点。而耐热冲击的组件，我们认为采用导电膜材料，能改善性能。以前由于导电膜成本高没法推广。刚才我们上午听专家报告了，导电膜的国产化已经有前景。如果能够普遍的采用，将对组件的耐热冲击

，系统三个方面的光学性能及电学性能考量。这里我列举了几个方向。例如，在组件端，光学优化的方案有聚光焊带的开发，电学优化有低电阻焊接技术工艺的开发等。系统的温度系数，工作温度等都是影响实际发电量的要素
，对抗PID性能更加优异等优点。而耐热冲击的组件，我们认为采用导电膜材料，能改善性能。以前由于导电膜成本高没法推广。刚才我们上午听专家报告了，导电膜的国产化已经有前景。如果能够普遍的采用，将对组件的

一些概念性的东西，都有提升组件效率的一个方法，组件电阻焊接，光学就是我们讲的LC2，这里面都有一个关注，而且很接近量产，那系统端都是熟悉的。另外还有一些电子的温度等等。电池这端实际上就绝对是未来的方向
应该宽一些。 周总：位置的分析，非常清楚，但是实际上热斑是已老化的后果，你从正面来看，如果你那个VV膜那个地方有一个洞就容易成热斑，因为你不能判断电磁片，还是焊带的位置，你透光的，跟电池直接一定会承担

，根据其吸收原理可分五大类：①本征吸收涂层(半导体和过渡金属) ②光干涉型涂层(TiOxNy) ③多层渐变膜型涂层(渐变Al-N/Al) ④金属陶瓷复合涂层(M-AlN) ⑤光学陷阱涂层
涂层材料具有极好的光学性能，同时具有非常优良的高温性能，膜层自身的耐蚀性能也非常好; 2.蓝膜主要通过物理气相沉积和磁控溅射实现，加工制备过程可实现全自动控制; 3.蓝膜涂层材料的缺陷如下

限制而应用到产业化生产当中来。目前已经有多家国内外公司对外宣称到2008年年底其大规模产业化生产转换效率单晶将达到18%，多晶将超过17%。 2.1表面织构 减少入射光学损失是提高电池效率最直接方法
气体，非环境友好型生产方式。反应离子刻蚀技术(RIE)是最有发展前景的技术，它首先在硅片表面形成一层MASK(掩膜)再显影出表面织构模型，然后再利用反应离子刻蚀方法制备表面织构。用这种方法制备出的减反射

市场也在逐渐发展。一种新型的光伏电池封装前膜ECTFE(乙烯-氯三氟乙烯)已实现商业化生产。封装前膜为光伏电池的内部组件提供了保护屏障。前膜的品质要求较为严格，必须达到低水蒸汽渗透性、优质抗紫外线性能和

。如专门为LXCPV（（Low concentration-X， Crystalline silicon PhotoVoltaic））设计的聚合物多层光学膜Cool Mirror只反射对太阳能电池和
封装前膜ECTFE（乙烯-氯三氟乙烯）已实现商业化生产。封装前膜为光伏电池的内部组件提供了保护屏障。前膜的品质要求较为严格，必须达到低水蒸汽渗透性、优质抗紫外线性能和可见光透过度高，使用寿命长达25年

活的移动发电系统。如专门为LXCPV（（Low concentration-X， Crystalline silicon PhotoVoltaic））设计的聚合物多层光学膜Cool Mirror只反射
。一种新型的光伏电池封装前膜ECTFE（乙烯-氯三氟乙烯）已实现商业化生产。封装前膜为光伏电池的内部组件提供了保护屏障。前膜的品质要求较为严格，必须达到低水蒸汽渗透性、优质抗紫外线性能和可见光透过度高

而应用到产业化生产当中来。目前已经有多家国内外公司对外宣称到2008年年底其大规模产业化生产转换效率单晶将达到18%，多晶将超过17%。 2.1表面织构 减少入射光学损失是提高电池效率最直接方法
，非环境友好型生产方式。反应离子刻蚀技术（RIE）是最有发展前景的技术，它首先在硅片表面形成一层MASK（掩膜）再显影出表面织构模型，然后再利用反应离子刻蚀方法制备表面织构。用这种方法制备出的减反射绒