光伏产物

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中美太阳能暗战:谁是幕后推手?来源: 发布时间:2012-06-05 14:01:59

(Wayne Gretzky,一种加拿大出产的葡萄酒)一样,是纯粹的加拿大本土产物尽管这家公司被列入到一长串中国光伏制造商名单中。上个月美国商务部初步裁定这些公司在美国市场上非法倾销太阳能电池,并要以高额

关于保利协鑫多晶硅生产节能环保降耗情况的澄清启示来源:solarbe.com 发布时间:2012-05-29 08:58:40

集团采取改良西门子法闭路循环工艺,氯氢化装置达130万吨四氯化硅处理能力,达到四氯化硅、氯化氢、氢气等主要副产物99%以上回收利用,100%得到无害化处理,环保达标排放。 关于库存情况
8吉瓦,是全球其中一间最大的光伏企业。同时,集团在多晶硅及硅片质量、成本、市场上也居全球领先地位。集团现全力开展太阳能系统集成业务,致力向太阳能电站投资者提供包括项目开发、设计、采购、建设、融资及营运

光伏新兴市场的发展之“惑”来源:OFweek太阳能光伏网 发布时间:2012-05-25 08:59:59

全球光伏市场将达到5600兆瓦,电池模块价钱也在不竭上涨。然而09年伊始,西班牙的政策发生了转变,国度补助的上限为500兆瓦,市场缩小至80%。对于全球光伏财产来说,这显然不是个利好新闻,可是跟着光伏产物

太阳能光伏刻蚀清洗设备来源: 发布时间:2012-05-23 15:43:19

索比光伏网讯:在前一章中我们较为详尽地介绍了太阳能电池制造过程中的一个重要工序P-N结的制作,即常说的扩散过程,并对制作P-N结的扩散炉进行了简单介绍。而在制造太阳能电池的工艺流程中,通常都在扩散
,以至成为废品。本章首先对光伏" title="光伏新闻专题"光伏刻蚀技术进行了简单的介绍,并在此基础上介绍了几类典型的刻蚀清洗设备的使用和维护。5.1刻蚀技术简介5.1.1刻蚀的原理在刻蚀工艺的前一步

太阳能光伏扩散制结设备来源: 发布时间:2012-05-22 16:06:24

索比光伏网讯:在太阳电池制备中,扩散是一道重要工艺,其主要目的就是形成P-N结。对硅进行扩散的典型做法是将硅片置于高温石英管中(通常为800℃~1200℃范围),并通入含有待扩散元素的混合气体。在
,然后再进行磷的扩散。其实POCl3与O2的反应是分两步进行的:如果O2的量不足,就会存在产物PCl5,PCl5的存在会对硅片产生有害影响。所以实际生产中通常采用过量的O2来降低PCl5的影响,这也

美国光伏“反倾销”——“美国队长”式的悲剧来源:世纪新能源网 发布时间:2012-05-20 23:59:59

可想而知。由此可知,作为经济产物光伏市场,一旦受到政治的牵连,必然会产生众多政治的牺牲品。全球化的市场经济已是必然,健康的市场氛围不应受到过分抑制。美国的政策若是真的出于对本国光伏产业的保护,那么

光伏究竟“污染”了谁?来源: 发布时间:2012-05-15 11:47:59

光伏是不是一个污染行业?这本是个不是问题的问题,但有人偏要拿出来说事。自己不作为,或者是管理不到位,却要把鞭子抽到在认真做事的光伏业者身上就有点过了。近阵子有官府背景的人称,在光伏产业中硅生产是
高耗能、高污染但应用却是清洁能源,我国的硅产量占全球40%以上而95%用于出口。因此,我国为世界低碳作出了贡献,但自身并没实现低碳发展,于是就有媒体相继给光伏产业下了污染留中国,绿色输海外的定论。我不清楚

太阳能光伏清洗制绒设备(2)来源: 发布时间:2012-05-15 09:06:54

索比光伏网讯:3.1.2晶体硅表面制绒原理硅片经过初步清洗去污后,要进行表面的制绒处理。按腐蚀液的种类不同,硅片的制绒可分为碱性制绒和酸性制绒两类。1.碱性制绒原理碱性制绒主要适用于单晶硅,碱性制绒
与硅片在一定温度条件下进行反应,实际反应非常复杂,酸腐蚀液是由两种酸与水以适当的比例混合而成。其中一种酸是强氧化剂,在反应中提供反应所需的空穴,另一种是络合剂,与反应的中间产物反应生成另一种络合物以

朱共山:光伏界的郭台铭来源: 发布时间:2012-05-14 13:56:59

手腕进行整合。问题是,这能持续吗?  速度、规模、低成本在江苏徐州开发区杨山路最东边的中能硅业,是朱共山光伏起家之地。这片占地两千亩的工厂,除设备检修外,自开工初始就24小时不间断运转。整个化学法多晶硅
股份,国泰和北京中能的股权都属于朱共山。中能硅业副总吕锦标告诉记者,协鑫集团一直从事环保能源领域,如垃圾发电、生物质发电和风电,而进入光伏行业则是想做下游光伏发电。当时做光伏发电根本不成熟,但还是想进

管式PECVD流量对太阳能电池氮化硅膜影响的工艺研究来源: 发布时间:2012-04-19 13:51:18

索比光伏网讯:氮化硅膜作为晶体硅太阳能电池减反射钝化膜是目前太阳能电池制备的主流,然而由于用PECVD来制备的氮化硅膜,是以SixNyHz方式来表达的,其中的x,y,z的数值直接影响了膜的光学性能和
分子被直接排出系统之外。(7)到达衬底表面的各种化学基团发生各种沉积反应并释放出反应产物。假设一个极端的情况:假设在衬底表面处,反应进行得很彻底,没有残余的反应物存在;假设在装置的上界面Y=B处,物质