领先的湿法化学生产设备专家RENA与imec合作,日前为直拉硅片纹理开发一种新型无异丙醇工艺,被称为“monoTEX F”,RENA的下一代纹理助剂。
然而,美国Akrion Systems,半导体行业一家著名的湿法化学公司,正在发表论文,尽管没有参展,但是涵盖用于碱性纹理的无异丙醇助剂。
根据RENA,其monoTEX F是一种缓和润湿剂,据说在温度和碱浓度变化过程中,几乎呈现“线性”,这使得其在纹理工序中以远低于其沸点的温度运作,否定蒸发并在刻蚀结构中提供稳定的浓度比例。
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因此,monoTEX F简化纹理并且同时放宽纹理工艺窗口,增加纹理槽寿命,其有助于降低整个工艺的成本。
Imec的研发项目经理约阿希姆·约翰(Joachim John)博士表示:“当在我们的硅光伏中试线中应用这一新型monoTEX F基纹理,以处理大面积(156x156 mm2) PERC型太阳能电池时,我们实现远高于21%的卓越转换效率。我们相信,RENA的monoTEX® F基纹理工艺是对下一代高容量直拉硅太阳能电池制造的一个绝佳候选方案。”
Akrion Systems应用和技术副总裁Ismail Kashkoush博士在周一发布论文,在一篇名为《先进太阳能电池制造中无异丙醇纹理工艺的发展》的口头报告中,强调其无异丙醇解决方案。
周二一篇名为《KOH溶液及助剂导电性和pH值测量相关性》的口头报告,其中包括这篇文章的共同著者,法国Bourget du Lac、CEA的Adrien Danel、以及Akrion 的Chen博士、Jennifer Rieker和Dennis Nemeth。这篇文章推断专利闭环浓度控制的使用大幅减少返工,并且硅片工艺使得制造强劲并且成本降低。”
RENA与imec都参展EU PVSEC。