无损伤
此次装置比溅射装置出色的是,不仅能够减少采用非真空工艺时较大的设置面积及初期投资,而且还可凭借无等离子体损伤这一点来提高基材薄膜的特性。
其中,无等离子体损伤的良好效果得到了
太阳能电池厂商的证实。有厂商报告称,用于CIGS(Cu-In-Ga-Se)型太阳能电池的透明导电膜时,“转换效率(最大)提高了1成”。在良好的结果鼓舞下,已开始有太阳能厂商考虑导入试制机。
另外,成膜速度也比溅射装置高。溅射装置约为200nm/分钟,而TMmist达到了650nm/分钟。其原因估计是雾状液体能够比气体实现更多的原料供给量。
图3:还可用于有机EL等
东芝
三菱电机产业系统设想将
雾化CVD装置用于CIGS型太阳能电池的透明导电膜用途,此外还考虑开拓有机EL等用途。(图片出处:东芝三菱电机产业系统)
作为TMmist最初的应用领域,东芝三菱电机产业系统选择的是今后市场有望增长的CIGS型太阳能电池的透明导电膜。而且今后该公司还将开拓其他用途,比如显示器等使用的透明导电膜,以及使用有机原料的有机EL等(图3)。其中,在有机EL方面,除了用于透明导电膜之外,还可用于发光层、电子传输层及正孔传输层等。(记者:河合 基伸,《日经电子》)
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