PECVD

光热发电追日系统、TwinCAT- 适用于PLC和运动的通用解决方案、全自动串焊机方案、丝网印刷机方案、PECVD、MOCVD 应用方案、单晶硅炉，多晶硅铸电炉方案、以及可为客户量身打造的自动化系统等

PECVD硅片碎片清理装置》（专利号ZL 2012 2 0415034.3）、《屋顶太阳能电池板安装结构》（专利号ZL 2012 2 0489946.5）、《一种带冷气风箱的太阳能伞》（专利号ZL

硅片少子寿命的下降，并引起衬底掺杂浓度的再分布。许多有害杂质也会在高温条件下扩散到硅片体内。早期就有人提出SiNx是理想的减反射膜，而且还可以同时达到表面钝化和体内钝化的效果。PECVD法沉积的氮化硅膜
比拟的，因此是一种用作晶体硅太阳电池减反射及钝化薄膜的理想材料。热生长的SiO2由于其良好的致密性，具有很好的表面钝化作用，而PECVD法沉积SiNx膜对硅片的表面和体内都有一定的钝化作用。由于短波

已定。2月中旬，一种薄膜太阳能电池关键生产设备等离子体增强型化学气相沉积设备(PECVD)在上海张江理想能源设备公司正式下线。这种设备能大幅降低硅薄膜电池生产成本，打破了薄膜太阳能电池设备市场一直被国外

PECVD设备上进行背面钝化技术的硅片少子寿命在传统工艺的基础上提高了5倍，与文献记录完全相符，这证明捷佳伟创的背面镀膜钝化已经成熟，这项进步填补了国产设备背面镀膜钝化技术的空白，已经进入国际领先水平

必备的制程步骤全自动化镀膜系统在晶硅太阳能电池的正面与背面进行保护层钝化，大幅提升晶硅太阳能电池的转换效率Manz 为全球领先的高科技设备制造商，随着VCS 1200 PECVD垂直式真空镀膜系统问世
，我们正式踏足真空镀膜的市场。VCS 1200 PECVD是一款专门针对晶硅太阳能电池进行正面与背面垂直定位镀膜的设备，可完成保护层钝化。它的发表也意味着我们完整掌握了全自动化晶硅太阳能电池生产的每

2012年年中停止了薄膜的大规模生产，而保留薄膜的研发，特别是薄膜在晶矽上面HIT的研发。目前我们研发改造的PECVD设备已经被杭州一家电池厂订购，作为HIT高线电池扩产使用。记者： 2011年底对于

研发改造的PECVD设备已经被杭州一家电池厂订购，作为HIT高线电池扩产使用。EnergyTrend： 2011年底对于产品的效率需求有大幅提升，2012年整年对于高效的反应却相当冷淡，请问正泰怎么看

升级。在镀膜前对电池背面用单面抛光设备LINEA II进行湿化抛光。 该集团可提供研发用的一道设备，也可提供多道至10道的大规模生产设备。该集团开发的SINGULAR XP设备是运用PECVD