PECVD

国产化，PECVD、等离子刻蚀机、激光机和层压机、太阳能电池及组件的测试等设备已经实现国产化，预计到2012年江苏的光伏产业装备将实现100%的国产化。 市场培育严重落后于产业发展，在

新兴产业制高点。目前，尚德已在全球建立6个研发中心，聘请外籍专家数十人。 此外，江苏省一批骨干型光伏企业已经着手攻克光伏产业技术装备的国产化，PECVD、等离子刻蚀机、激光机和层压机、太阳能电池及

投入仅为引进全套进口设备的20%左右。目前，为尽快实现薄膜电池装备的国产化，我司已与美国公司在苏州吴江建立合资企业，生产薄膜电池三大核心装备，即PECVD反应炉、真空溅射生产线和TCO导电玻璃生产

相沉积（PECVD）工艺。此外，液相外延法（LPPE）和溅射沉积法也可用来制备多晶硅薄膜电池。 化学气相沉积主要是以SiH2Cl2、SiHCl3、SiCl4或SiH4,为反应气体,在一定的

制造工艺，如刻蚀、PECVD、LPCVD、PVD、MOCVD以及清洗等。”Edwards中国分公司总经理许坚说。“制造工艺的复杂度不断提升，对包括真空泵在内的设备硬件提出了更苛刻的要求

、 清洗设备、扩散设备、蚀刻设备、覆膜设备（PECVD）、丝网印刷、测试分选设备、其他炉设备等； 原料：硅料、硅片、硅棒/硅锭、封装玻璃、封装薄膜及其他原料； 相关零部件：蓄电池、充电器

作用，减少了表面不饱和的悬挂键，减少了表面能级。 　　综合来看，SiNx膜被制备在硅的表面起到两个最用，其一是减少表面对可见光的反射；其二，表面钝化作用。 　　二 PECVD技术的分类 　　用来制备
SiNx膜的方法有很多种，包括：化学气相沉积法（CVD法）、等离子增强化学气相沉积（PECVD法）、低压化学气相沉积法（LPCVD法）。在目前产业上常用的是PECVD法。 PECVD法按沉积腔室等离子

CELL奖项得主。评审团将欧瑞康太阳能的KAI 1200 PECVD（等离子体增强化学气相沉积）系统评为“薄膜组件生产最佳技术产品”。“我们对于这一成就以及欧瑞康技术的领先性及适用于生产的设备受到认可而
用以使用。 欧瑞康太阳能的KAI 1200 PECVD（等离子体增强化学气相沉积）是用来沉积硅吸收层的设备，这是欧瑞康太阳能非微晶叠层(Micromorph)薄膜硅光伏技术的核心部分。这些层的沉积是薄膜

应用。太阳能电池产业需要很多企业配套,广东拥有雄厚的产业配套基础。在这种信心支撑的基础上,下一步,中建材将成立一个生产太阳能电池的公司,全面开展PECVD生产线的建设工作。同时,广泛引进和特聘国内外

渗透到许多电子产品的制造领域，其中最典型的是平板显示器件和太阳能电池领域(二者均含有半导体工艺及设备，其主流材料也未离开硅)，例如晶硅太阳能电池生产线中的单晶炉、扩散炉、PECVD(等离子增强化学气相淀
积)设备，薄膜太阳能电池生产线中的PECVD、PVD(离子镀膜)设备等。在集成电路、平板显示器件和太阳能电池三种制造设备中，国产太阳能电池设备是其中发展最快和最好的。据有关行业协会统计，2008年中