太阳电池――即不同半导体材料在一起形成的太阳电池J瞩SnO/Si,In20/Si,(1n203十SnO2/Si电池等。由于SnO2、In2O3、(In2O3+SnO2)等带隙宽,透光性好,制作电池工艺简单
更加广阔。早在本世纪50年代,第一个实用性的硅太阳电池就在美国贝尔实验室内诞生了。不久,它即被用于人造卫星的发电系统上。迄今为止,太空中成千的飞行器都装备了太阳电池发电系统。尽管如此,太阳电池在地面
广泛应用于太阳电池窗口层,并作为n型层,与p型材料形成p-n结,从而构成太阳电池。因此它对太阳电池的特性有很大影响,特别是对电池转换效率有很大影响。 一般认为,窗口层对光激发载流子是死层,其
。通常情况下,半导体的费米能级位于禁带。费米能级距导带底较近,则电子为多数载流子,材料为n型。费米能级距价带顶近的,空穴为多数载流子,材料为p型。费米能级位置可以通过适当掺杂加以调节。就是说,半导体电导的数量和
半导体材料在一起形成的太阳电池J瞩SnO/Si,In20/Si,(1n203十SnO2/Si电池等。由于SnO2、In2O3、(In2O3+SnO2)等带隙宽,透光性好,制作电池工艺简单,曾引起许多
正面有20一40μm的SiO2膜,在膜上真空蒸发金属栅线,整个表面再沉积SiN薄膜。SiN薄膜的作用是:①保护电池,增加耐候性;②作为减反射层(ARC);降低薄膜复合速度:①在p-型半导体一侧产生一个n
。常规太阳电池简单装置如图1所示。当N型和P型两种不同型号的半导体材料接触后,由于扩散和漂移作用,在界面处形成由P型指向N型的内建电场。当光照在太阳电池的表面后,能量大于禁带宽度的光子便激发出电子和空穴对
生伏打效应”。如果这时分别在P型层和N型层焊上金属导线,接通负载,则外电路便有电流通过,如此形成的一个个电池元件,把它们串联、并联起来,就能产生一定的电压和电流,输出功率。制造太阳电池的半导体材料已知
晶体硅太阳电池组件l 单玻璃封装 双玻璃封装R2n N_\M#o ②半透光晶体硅太阳电池组件l 单玻璃封装 双玻璃封装 ③半刚性晶体硅
太阳电池。}/I$Y2] nY}wj0Tl 目前市场上的主流电池仍然是晶体硅太阳电池,2005年市场份额占95%。其中多晶硅电池52.3%、单晶硅电池38.3%、带硅/片硅电池
畦网络结构更稳定。本征8si呈弱N型,掺入痕量硼可将费来能级移向带隙中央,既可提高光灵敏度又可减少先致衰退。
6.新制备技术探索
射频等离子体强CVD是当今普遍采用的制备a一Sl
5.新技术探索
为了提高非晶硅太阳电池的初始效率和光照条件下的稳定性,人们探索了许多新的材料恰工艺。比较重要的新工艺有:化学退火法、脉冲虱灯光照法、氢稀释法、交替淀积与氢卫法、掺氟