CVD

。　　 下一页 　　在线镀膜优势明显在线TCO镀膜玻璃的镀膜技术采用的是化学气相沉积法（CVD法），侯英兰表示，化学气相沉积法是目前世界上主要生产在线镀膜玻璃的方法，在浮法玻璃生产线的锡槽的长度方向

PV17-0611涉及到利用多种工艺方法生产的多晶硅材料详细规范，包括化学气相沉积（CVD）法、冶金还原法和其他工艺方法。CVD工艺中包括了所谓的“西门子法”、流化床法、粉末法和其它使用蒸馏硅烷或卤化硅混合物

Siemens法的高耗能CVD气相方式且添加许多有毒物质，也可以取得去除掉大部分磷(P)、錋(B)、氧(O)、碳(C)等杂质的低成本高纯度多晶矽，最重要的是，可以让太阳能发电1kWh低于1美元的理想提早实现

（CVD）法、冶金还原法和其他工艺方法。CVD工艺中包括了所谓的西门子法、流化床法、粉末法和其它使用蒸馏硅烷或卤化硅混合物的方法。这些特殊材料可用于生长单晶，铸造多晶，以及其他方法生长多晶硅材料，从而

规范，包括化学气相沉积（CVD）法、冶金还原法和其他工艺方法。CVD工艺中包括了所谓的“西门子法”、流化床法、粉末法和其它使用蒸馏硅烷或卤化硅混合物的方法。这些特殊材料可用于生长单晶，铸造多晶，以及

氢硅氢还原法改良西门子法是用氯和氢合成氯化氢（或外购氯化氢），氯化氢和产业硅粉在一定的温度下合成三氯氢硅，然后对三氯氢硅进行分离精馏提纯，提纯后的三氯氢硅在氢还原炉内进行CVD反应生产高纯多晶硅

在氢还原炉内进行CVD反应生产高纯多晶硅。 　　国内外现有的多晶硅厂尽大部分采用此法生产电子级与太阳能级多晶硅。 　　2 硅烷法——硅烷热分解法 　　硅烷（SiH4）是以四氯化硅氢化法、硅合金

最低水平的成本生产高纯度硅。” GT的多晶硅生产设备包括业内生产率及能效最高的化学汽相淀积（CVD）反应器以及包括氯氢化、硅芯与产品加工设备技术在内的全套技术，该公司的多晶硅生产设备是一项完善、低成本的端

市场份额最高的产品之一GT Solar的多晶硅生产设备包括行业内富有生产力并最低能耗的CVD反应炉、从氢氯化反应、籽晶生长系统到多晶硅后处理系统，提供了完整的、成本最低的端对端生产解决方案。

上担任过产品经理，以及ASM(欧洲)公司的总经理等职。Hasper博士为半导体和资本设备市场撰写了逾25篇杂志文章及会议论文，并持有CVD和ALD沉积技术和资本设备设计等领域内的十项美国专利。同时