PVSEC)期间,推出新型等离子体化学气相沉积(PECVD)垂直镀膜设备VCS 1200,该设备能对晶体硅太阳能电池进行正面与背面的双面镀膜。在等离子体增强化学气相沉积过程中对电池进行钝化对于硅基
2012年8月6日高科技产业整合解决方案供应商Manz AG宣布将正式进军晶体硅太阳能电池真空镀膜市场,并借参展于法兰克福举行的欧洲光电太阳能会议暨展览会(EU PVSEC)期间,推出新型等离子体
化学气相沉积(PECVD)垂直镀膜设备VCS 1200,该设备能对晶体硅太阳能电池进行正面与背面的双面镀膜。在等离子体增强化学气相沉积过程中对电池进行钝化对于硅基太阳能电池至关重要。垂直镀膜设备VCS
;为电网稳定运行开发动态无功补偿装置;为节能环保工程提供系统化技术服务等。现主要产品为:高压大功率变频器、风力发电机电力变流器、等离子体炬专用电源等。
原子层技术合作,强强联合,加快了国内开发原子层沉积设备的研制和在嘉兴市的产业化,推出了一系列的拥有自主知识产权和创新的原子层沉积设备产品,包括热型设备、等离子体增强型设备和适于光伏产业应用的批量型设备
原子层技术合作,强强联合,加快了国内开发原子层沉积设备的研制和在嘉兴市的产业化,推出了一系列的拥有自主知识产权和创新的原子层沉积设备产品,包括热型设备、等离子体增强型设备和适于光伏产业应用的批量型设备
独特的高频等离子体源、多频偏振源和步进式温度控制功能,Avatar系统可通过多种材料叠层、突破性的形貌和针对阶梯式结构的多深度接触的选择性性能,在高深宽比结构中获得垂直形貌。除了这些优势之外,该系统的刻蚀速率极高,可使系统生产率达到最高水平。
和他的团队再一次成为第一个吃螃蟹的人。2011年1月8日,首台代表国际尖端水平的中国造薄膜太阳能电池关键生产设备等离子体增强型化学气相沉积设备(PECVD)在正泰成功下线。自此,打破了高端薄膜太阳能
团队再一次成为第一个吃螃蟹的人。2011年1月8日,首台代表国际尖端水平的中国造薄膜太阳能电池关键生产设备等离子体增强型化学气相沉积设备(PECVD)在正泰成功下线。自此,打破了高端薄膜太阳能电池设备
,首台代表国际尖端水平的中国造薄膜太阳能电池关键生产设备等离子体增强型化学气相沉积设备(PECVD)在正泰成功下线。自此,打破了高端薄膜太阳能电池设备一直被国外厂商垄断的局面。相比于进口装备,正泰自己研发
反应的气体增加,到达基片表面的反应产物增多,同时压强适当提高,反应室内的等离子体密度增大,反应气体中活性粒子增多,从而得到高沉积速率、高质量的非晶硅薄膜。但当工作压强进一步上升到较高值时,等离子体密度
)。聚合物(黄色粉末),从而大大降低了a-Si:H薄膜的质量。此外,当气压过高时,氢等离子体的刻蚀变得更加活跃,使得SiH2结构的基团增多,SiH2基团的增多意味着有更多的晶界和微孔,它们都是类似于