等离子体
较低气压下，利用低温等离子体在工艺腔体的阴极上产生辉光放电，利用辉光放电(或另加发热体)使样品升温到预定的温度，然后通入适量的工艺气体，这些气体经一系列化学反应和等离子体反应，最终在样品表面形成固态薄膜
在此不作赘述。 下面介绍一下背面钝化工艺、背面开槽工艺的主流设备和技术: 1)背面钝化设备:背面钝化设备是实现PERC工艺的主设备，其技术方案主要有PECVD(等离子体增强化学气相沉积
射频激发受热的稀薄气体进行辉光放电形成等离子体，通过两片相对应的石墨片加相反的交变电压使等离子在极板间加速撞击气体，运动到硅片表面完成镀膜过程。
三、镀膜的相关介绍
1、机台照片与工作
原理图
2、等离子体
所谓等离子体，是指气体在一定条件下受到高能激发，发生电离，部分外层电子脱离原子核，形成电子、正离子和中性粒子混合组成的一种形态，这种形态就称为等离子态
材料、软物质物理和等离子体等多个优势。 厦门大学能源学院 厦门大学能源学院是在能源研究院的基础上发展起来的。能源研究院成立于2007年9月， 2013年初，能源研究院新设本科专业新能源
等离子体，轰击制备材料制成的靶表面，把靶材中的粒子 轰击出来，粒子沉积在衬底上制成薄膜。特别适用于制备生长熔点和蒸气压相差悬殊的 元素所构成的化合物合 金薄膜。 磁控溅射就是在 阴极表面电压位降区
13. 56MHz)，在溅射室内充有一定的惰性气体(如 Ar 气)，通过射频放 电产生低温等离子体。 等离子体中产生的离子， 在电场的作用下加速成能量很高的离子。 这些高能离子撞击靶材表面，与靶材表面
：管式 PECVD、管式高温扩散炉、单多晶制绒设备、单多晶清洗设备、硅芯硅料硅片清洗设备、等离子体刻蚀设备、链式湿法刻蚀设备、自动化设备等。 芯能科技： 公司主营业务为多晶硅和单晶硅材料制品
推广的三部曲。 捷佳伟创成立至今，均主营生产PECVD(等离子体增强化学的气相沉积法)等晶体硅电池设备。当时国内太阳能电池市场处于两头在外的格局当中，即生产设备和材料全部依赖于国外，市场也依赖于国外
活性基团，例如羟基 (-OH) (图1)，因此可以通过化学反应的方式将氟材料导入背板内层并固定在基材表面。反应性氟材料在涂覆型背板中用的比较多，尤其是在等离子体增强的涂层技术中，通过固化剂将反应性氟
就会产生电离，形成自由运动并且相互作用的等离子体，等离子体沉积到硅片表面形成一层深蓝色SiN薄膜。这层SiN薄膜具有很好的光学特性，良好的膜厚和折射率可以促进太阳光的吸收，使电池片上光的反射大大减少
工艺技术的核心，要求氢化非晶硅膜层的缺陷态密度低、折射率高且光吸收系数低。目前，国内外文献多采用等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)制备非晶硅薄膜，其他方法如热丝化学气相沉积技术(HWCVD)、常压
