应用材料

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硅谷投资人加盟 远景能源风投布局来源:pv-tech 发布时间:2015-09-16 08:29:22

Technology,该公司后被应用材料公司收购。Dan Ahn还曾任职于瑞信投资银行风险投资部门。DanAhn毕业于哈佛大学本科,并获得了哈佛MBA学位。 加入远景后,DanAhn主导了远景风险投资基金投资了物联网

资本密集布局颠覆性太阳能新技术 逼退应用材料来源: 发布时间:2015-09-15 09:01:59

领先的半导体设备供应商应用材料(NASDAQ: AMAT)日前向PV-Tech证实,其将关闭其总部位于瑞士的精密切割系统(PWS)线锯业务,并且停止其Solion离子注入产品的开发。在给媒体的一份
澄清退出太阳能业务部门的声明中,应用材料指出,其将继续为现有Solion离子注入机客户提供支持。在其此前的收入电话会议中,应用材料的首席财务官Robert J. Halliday表示:我们还降低我们的

资本短缺 光伏制造也危机重重来源:pv-tech 发布时间:2015-09-15 09:00:10

领先的半导体设备供应商应用材料日前向PV-Tech证实,其将关闭其总部位于瑞士的精密切割系统(PWS)线锯业务,并且停止其Solion离子注入产品的开发。 在给PV-Tech的一份澄清
退出太阳能业务部门的声明中,应用材料指出,其将继续为现有Solion离子注入机客户提供支持。在其此前的收入电话会议中,应用材料的首席财务官Robert J.Halliday表示:我们还降低我们的运营成本。在(财年

资本短缺 光伏制造业危机重重来源: 发布时间:2015-09-15 00:02:59

领先的半导体设备供应商应用材料日前向PV-Tech证实,其将关闭其总部位于瑞士的精密切割系统(PWS)线锯业务,并且停止其Solion离子注入产品的开发。在给PV-Tech的一份澄清退出太阳能业务
部门的声明中,应用材料指出,其将继续为现有Solion离子注入机客户提供支持。在其此前的收入电话会议中,应用材料的首席财务官Robert J.Halliday表示:我们还降低我们的运营成本。在(财年

资本密集布局颠覆性太阳能新技术,逼退应用材料来源:PV-Tech 发布时间:2015-09-14 13:45:24

领先的半导体设备供应商应用材料(NASDAQ: AMAT)日前向PV-Tech证实,其将关闭其总部位于瑞士的精密切割系统(PWS)线锯业务,并且停止其Solion离子注入产品的开发。 在给
PV-Tech的一份澄清退出太阳能业务部门的声明中,应用材料指出,其将继续为现有Solion离子注入机客户提供支持。在其此前的收入电话会议中,应用材料的首席财务官Robert J. Halliday

应用材料退出太阳能离子注入和硅片切割领域来源:PV-Tech 发布时间:2015-08-20 11:46:38

领先的半导体设备供应商应用材料(NASDAQ: AMAT)日前向PV-Tech证实,其将关闭其总部位于瑞士的精密切割系统(PWS)线锯业务,并且停止其Solion离子注入产品的开发。 在其
上周的收入电话会议中,应用材料的首席财务官Robert J. Halliday表示:我们还降低我们的运营成本。在(财年)第三季度我们的非GAAP运营成本为5.76亿美元。在(财年)第四季度我们计划

加利福尼亚应用材料公司AMAT发布2015年第三季度财务报告来源:索比太阳能光伏网 发布时间:2015-08-18 09:07:59

2015年8月13日,加利福尼亚州圣克拉拉--全球领先的半导体、平板显示和太阳能光伏行业材料工程解决方案供应商应用材料公司(纳斯达克:AMAT),公布了其截止于2015年7月26日的2015财年
第三季度调整后的非GAAP每股盈余为0.33美元,同比上升18%;GAAP每股盈余为0.27美元,同比增长13% 2015财年第三季度,应用材料公司实现总订单额28.9亿美元,较2015财年

应用材料公司推出面向3D设备的高性能原子层沉积(ALD)技术
来源:索比太阳能光伏网 发布时间:2015-07-15 09:41:37

创新的Olympia系统确立了应用材料公司在原子层沉积技术领域的前沿地位 独特的模块化架构可生产出各类高质量ALD薄膜,并且在不牺牲产量的前提下支持关键低温工艺 Olympia系统已被多家芯片
制造商成功用于生产各类逻辑和内存设备应用 加利福尼亚州圣克拉拉,2015年7月13日应用材料公司今天宣布推出全新的Olympia原子层沉积(atomic layer deposition, ALD

应用材料公司推出全新刻蚀系统 实现原子级生产精度来源:索比太阳能光伏网 发布时间:2015-07-14 11:56:55

,2015年7月13日 应用材料公司今天宣布推出下一代刻蚀设备Applied Centris Sym3 刻蚀系统。该系统设有全新的反应腔,可实现原子级精度工艺。为了克服芯片内部特征差异,Centris
Sym3系统超越了现有的蚀刻技术,大幅改善了蚀刻的可控性和精准度,提供给芯片制造商制造先进内存和逻辑芯片的密集型三维结构。 应用材料公司蚀刻业务部门副总裁兼总经理Raman

应用材料公司推出面向3D设备的高性能原子层沉积(ALD)技术来源:世纪新能源网 发布时间:2015-07-13 23:59:59

索比光伏网讯: 创新的Olympia系统确立了应用材料公司在原子层沉积技术领域的前沿地位 独特的模块化架构可生产出各类高质量ALD薄膜,并且在不牺牲产量的前提下支持关键低温工艺
Olympia系统已被多家芯片制造商成功用于生产各类逻辑和内存设备应用加利福尼亚州圣克拉拉,2015年7月13日应用材料公司今天宣布推出全新的Olympia原子层沉积(atomic