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刻蚀和边缘隔离、背面沉积氧化铝、双面沉积氮化硅、背面钝化激光开槽、丝网印刷、烧结、分选。其大部分工艺与常规铝背场工艺相同，新增背面钝化镀层与激光开槽两道工序。目前PERC电池片
在生产中大规模应用，主要因为常规铝背场电池生产线进行部分工艺流程改造，即可用于PERC电池片生产。当前中国光伏电池制造设备企业已具备了成套工艺流程设备的供应能力，部分产品如清洗/制绒机、扩散炉、等离子刻蚀机等已在

于后者。他们研究多晶硅/c-Si结的载流子选择性的原理发现，n+-多晶硅和p+-多晶硅分别具有电子、空穴选择性，通过化学刻蚀的沟槽隔开，分别与表面氧化物接触，因而具有优异的钝化效果。基于SHJ
保护层，通过湿化学法对背面进行刻蚀，从而形成沟槽，将P、N型分离开后分别与金属电极接触，降低了载流子的复合，且形成载流子的选择性输运。相比于前面提到的几种结构的高效单晶硅太阳电池，该电池的制备流程复杂

元素的是酸液，而只有刻蚀和制绒两个工序涉及，刻蚀工序酸洗的是电池片背面，我们测试是正面烧蚀厚度约15m，因此制绒酸液残留的可能性较大，图4在小黑点区域略高，粉尘颗粒在过程中污染表面的可能性较大。 4
在职期间。通过与各组负责人跟踪各道测试片，扩散首尾片，以及玛雅背钝化掉渣外观明显的片子等，验证到以下内容： 1、黑斑非刻蚀、制绒清洗不足导致。仍怀疑清洗后Q-time时间长仍可能导致(针对部分高效不达标

) 特点：阻挡层用氧化硅或氮化硅，刻蚀浆料主要利用释放的氟化氢来刻蚀。也可以控制氧化硅的膜厚，形成半阻挡膜，一次性扩散。困难在，浆料的印刷性能，扩散均匀性，印刷对齐。三、直接印刷掩膜层
，centrotherm 的激光刻蚀氧化膜SE电池交钥匙工程。四、湿法腐蚀重扩散层/等离子体刻蚀重扩特点：湿法可用氢氟酸和硝酸体系或强碱，将暴露的重扩散层腐蚀成浅扩散层。要求耐腐蚀浆料。干法等离子体，用四

选择性，通过化学刻蚀的沟槽隔开，分别与表面氧化物接触，因而具有优异的钝化效果。基于SHJ电池的优异钝化性能、多晶硅/c-Si选择性输运和TOPCon的隧穿氧化钝化特性，Stodolny等提出
。然后通过LPD技术沉积本征多晶硅，再运用离子注入技术，形成P、N型的多晶硅和单晶硅。利用光刻胶作为保护层，通过湿化学法对背面进行刻蚀，从而形成沟槽，将P、N型分离开后分别与金属电极接触，降低了载流子